大气压低温等离子体喷涂ZrO_2薄膜工艺研究.pdfVIP

HotWorkingTechnology2019,Vol.48,No.8

大气压低温等离子体喷涂ZrO2薄膜工艺研究

王战清郝建民

,

长安大学材料表面强化研究所陕西西安

(,710054)

摘要：以氮气作为等离子体放电气体，八水合氯氧化锆水溶液作为锆源，金属盐溶液经过氮气雾化后加到等离子

体射流下游区域，在硅衬底上进行薄膜喷涂。采用射线光电子能谱仪对薄膜样品进行成分检测，通过扫描电镜观察

X

薄膜的微观形貌，利用EDS能谱仪对薄膜样品进行元素分析，并对喷涂薄膜的机理过程进行了探讨。结果表明，所制备

的薄膜的主要成分为氧化锆，薄膜表面由小颗粒堆积而成，微粒分布比较均匀，颗粒大小在10～20nm左右。在等离子

*＋

体喷涂过程中，氮气发生电离后产生了大量的反应活性物质，如、、和等，这些活性物质促使了反应的进行。通

NN2N

过大气压低温等离子体喷涂技术成功的制备出了ZrO2纳米薄膜。

关键词：大气压；等离子体喷涂；工艺；氧化锆；薄膜

DOI:10.14158/j.cnki.1001-3814.2019.08.041

中图分类号：+文献标识码：文章编号：

TG174.442.1A1001-3814(2019)08-0164-04

StudyonTechnologyofZrO2ThinFilmSprayedbyAtmosphericPressure

andLowTemperaturePlasma

WANGZhanqing,HAOJianmin

(InstituteforSurfaceStrentheningofMaterials,ChanganUniversity,Xian710054,China)

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AbstractNitrogenwasusedasplasmadischargegas,zirconiaoctohydrateaqueoussolutionwasusedaszirconium

source,metalsaltsolutionwasatomizedbynitrogenandaddedtothedownstreamregionofplasmajet,andthinfilmwas

sprayedonsiliconsubstrate.X-rayphotoelectronspectroscopy(XPS)wasusedtodetectthecompositionofthefilmsample