探索PI_SiO₂三层复合薄膜：结构剖析与性能洞察.docx

探索PI/SiO?三层复合薄膜：结构剖析与性能洞察

一、引言

1.1研究背景与意义

在当今科技飞速发展的时代，材料科学作为推动各领域技术进步的关键力量，正面临着前所未有的机遇与挑战。其中，PI/SiO?三层复合薄膜凭借其独特的性能优势，在电子、能源等诸多领域展现出巨大的应用潜力，成为材料科学领域的研究热点之一。

聚酰亚胺（PI）作为一种高性能聚合物材料，以其优异的综合性能在众多领域得到广泛应用。PI具有出色的耐高温性能，能够在-269℃至400℃的极端温度范围内保持稳定的物理和化学性质，这使得它在航空航天、电子电器等对材料耐高温要求苛刻的领域中不可或缺。例如，在航空发动机的高温部件