基于光纤分光干涉原理的激光微位移测量系统：技术、优化与应用.docx

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2025-11-18 发布于上海
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基于光纤分光干涉原理的激光微位移测量系统：技术、优化与应用.docx

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基于光纤分光干涉原理的激光微位移测量系统：技术、优化与应用

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代工业和科研领域，微位移测量技术扮演着至关重要的角色，其测量精度和稳定性直接影响到产品质量、生产效率以及科研成果的可靠性。随着纳米科技、半导体技术、微电子技术等的飞速发展，现代制造业对加工精度的要求不断攀升，微位移测量的重要性愈发凸显。例如在半导体芯片制造过程中，芯片上的电路线宽已达到纳米级别，这就要求在光刻、刻蚀等工艺环节中，对掩模版的定位和微小位移进行极其精确的测量和控制，否则会导致芯片性能下降甚至报废。在光学精密加工中，为了制造出高精度的光学镜片，需要精确测量镜片在研磨、抛光过程中的微位移