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正文目录
TOC\o1-2\h\z\u深耕半导体高端装备,铸就平台化发展格局 6
立足于刻蚀与MOCVD设备,开拓全面技术创新 6
卓越团队引领,引领长远发展 8
业绩增长亮眼,技术筑基长远 9
CCP刻蚀设备行业领先,覆盖先进制程需求 13
刻蚀工艺支撑集成电路制造核心环节 13
制程演进协同三维堆叠,刻蚀设备需求激增 14
CCP刻蚀技术领先,ICP刻蚀成长可期 16
薄膜设备稳步推进,外延应用加速延伸 20
国际厂商主导市场,国产替代任重道远 20
聚焦CVD/ALD核心技术,开拓存储与逻辑芯片市场空间 22
氮化
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