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膜成分的控制(a)O2:Ar=1:1(b)O2案例来源：《激光制备纳米材料、膜及应用》梁勇冯钟潮?化学工业出版社化学气相沉积技术CVD是通过气相物质的化学反应，在基材表面上沉积固态薄膜的一种工艺方法。各种化学反应：分解、化合、还原、置换等均可用来产生产生沉积于基片的薄膜，反应多余物（气体）可由反应室排出。CVD实现的条件气体的反应物的提供；向反应室的气体及机片提供能量使化学反应进行；反应室中的气体流动状态；沉积物的本身的饱和蒸气压应足够低；反应生成物除了所需的沉积物（膜）为固体，其余为气态。CVD的基本过程反应气体的获得并导入反应室反应气体到达基片表面并吸附在基片上产生化学反应固态薄膜在基片表面形核、生长多余的反应产物被排出CVD的基本原理化学反应的主要形式：热分解反应：SiH4?Si+2H2W(CO)6?W+6CO氧化还原反应：SiCl4+O2?SiO2+2Cl4置换反应：2SiI2←Si+SiI4化合反应：3SiH2Cl2+4NH3?Si3N4+6H2+6HCl→CVD的工艺方法常压及低压化学气相沉积（NPCVD及LPCVD）电子束辅助化学气相沉积（EACVD）激光化学气相沉积（LCVD）金属有机化合物的化学气相沉积（MOCVD）CVD薄膜的特征薄膜均匀性好薄膜应力低本征应力热应力常压化学气相沉积设备组成及反应过程：反应器加热系统供气系统CVD源物质激光化学气相沉积（LCVD）是用激光作为能量来源，用气态反应物通过化学反应途径生成固态膜的过程按激光作用机制可以分为激光热解CVD和激光光解CVD。*byJingLiangSchoolofMetallurgyandMaterials激光热解CVD是用激光直接或间接加热反应气诱导化学反应生成膜的过程，与普通的CVD相似，是光子能量加热使气体热解沉积。激光光解CVD使激光诱导反应气发生光化学反应生成膜。反应气对所使用的激光的特征波长有强吸收峰。激光光解CVD过程激光以足够的能量密度辐射在与其沉积部位的附近的反应气上；反应气体分子通过吸收激光光子的到高化学活性；光子激发能大于分子离解势垒，反应气分子离解；光解产物相互间发生化学反应生成新产物，沉积在基片表面成膜或与基体发生化学反应成膜。激光光解CVDLCVD的发展概况1972年Nelson、Richardson利用二氧化碳激光器制备碳膜。光解LCVD：金属膜、半导体膜、介质膜等应用在太阳能电池、微电子学、超大集成电路芯片、金属内引线等领域热解LCVD：金属及非金属膜，石英基材上沉积Si3N4微透镜、石英光纤等，针对微小型器件和表面优化。LCVD的特点沉积膜材料和基材选用广泛；可实现选区或微区沉积；高精度沉积不影响基材性能；可实现低温沉积或降低基材整体沉积温度；可得高纯度膜层；成膜速率高；以激光为能源容易实现快速加热与冷却；避免一些PVD中的束流对基材和沉积膜的损伤；热解LCVD对基体表面有热处理过程，复合表面强化。LCVD设备反应沉积室激光入射窗供、配气系统连接真空系统的管路工件或工作台LCVD设备激光系统激光器的选用激光与基片位置导光系统LCVD设备SchoolofMetallurgyandMaterialsSchoolofMetallurgyandMaterials气相沉积技术是通过气相材料或使材料气化后沉积于基片表面并形成薄膜，从而使基片获得特殊的表面性能的一种新技术。薄膜是用特殊方法获得的，依靠基体支撑并具有与基体不同的结构和性能的二维材料。*byJingLiangSchoolofMetallurgyandMaterials薄膜材料的主要特征厚度:二维材料，一般具有亚微米至微米级的厚度，扩展到纳米和近毫米级的金刚石膜。基体支撑特殊的结构和性能特殊的形成方式*byJingLiang薄膜材料制备方法液相法气相法物理气相沉积PVD是指在真空条件下，采用物理方法将固态的镀料转化为原子、分子或离子的气相物质再沉积于基体表面，从而形成薄膜的制备方法。主要有真空蒸镀、溅射镀、离子镀等方法化学气相沉积CVD是将含有薄膜组成的一种或几种化合物气体导入反应室，使其在基体上通过化学反应生成所需薄膜的制备方法。主要有常压或低压CV