2025《类石墨烯二维材料制备与应用研究》6900字.docxVIP

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类石墨烯二维材料制备与应用研究

目录

TOC\o1-3\h\u1引言 1

2类石墨烯材料的结构与性质 1

2.1过渡金属二硫族化合物 1

2.2过渡金属氧化物和氢氧化物 1

2.3六方氮化硼类 1

2.4硅烯类 2

2.5二维黑磷材料 2

3类石墨烯材料的制备合成 2

3.1微机械剥离法 2

3.2液相剥离法 3

3.3化学气相沉积法 3

3.4水热合成法 4

4类石墨烯材料的应用 4

3.1高精度传感 4

3.2电子工业 4

3.3气体分离与储存 5

3.4催化 5

5结论 5

参考文献： 7

摘要：二维层状材料为平面材料，有单个原子层或者多个原子层厚，具有特殊物理化学性能，在光电功能器件中、在吸附和分离，催化方面有重要的应用前景，是当前国际上研究前沿与热点之一。其中石墨烯作为二维材料首先引起了广泛关注，紧接着，以过渡金属硫化物为主要材料的类石墨烯二维光电功能材料得到了人们的广泛关注。黑磷在最近几年被发现，这也大大推动了二维光电材料研究与开发。本文首先介绍二维纳米材料的制备方法，然后重点讨论一维，三维以及多组分复合材料的性能与合成方法之间的关系。对二维光电材料石墨烯和类石墨烯硫化物及其在光电功能器件中的应用状况作了简要评述，并提出了应用趋势。

关键词：二维；类石墨烯；应用

1引言

伴随着社会的进步，全球能源需求激增。另外，这些能源都是不可再生能源，其燃烧后排出的二氧化碳等温室气体造成严重的环境破坏与气候变化。随之而来，出现了一系列问题，一方面，传统燃料为煤和石油、天然气和其他储量是有限的，造成全球性能源危机；因此，开发新型高效清洁能源是解决人类未来可持续发展所面临难题的必由之路。另一方面，化石燃料的使用也会排放出大量的有害气体，加重环境污染，温室效应严重。在种类繁多的催化剂当中，类石墨烯二维材料由于具有超高比表面积、性能优越，价格低廉，受到人们普遍重视。

2类石墨烯材料的结构与性质

2.1过渡金属二硫族化合物

过渡金属硫族化合物属于二元层状化合物，层间由范德瓦耳斯力等组合，它拥有类似石墨烯的六方晶格结构和宽广的光电性质，当到达原子级厚时，显示了很强的量子限域效应，向一类二维材料的过渡。

2.2过渡金属氧化物和氢氧化物

普通过渡金属氧化物以二氧化硅为主，是化学式SiO2的无机化合物，硅原子与氧原子呈长程的有序排列，构成晶态二氧化硅，短程有序排列或者长程无序排列，形成非晶态二氧化硅。二氧化硅作为半导体材料已广泛应用于电子工业，光学通讯，化工等领域。二氧化硅晶体内，硅原子在正四面体中央，4个氧原子分布在正四面体4个顶角处，很多这种四面体再由顶角氧原子连接，每一个氧原子都是两个四面体所共同拥有的，也就是每一个氧原子和2个硅原子的结合。

2.3六方氮化硼类

六方氮化硼（HexagonalBoronNitride,h-BN）层是一个六角形环，B原子与N原子相间相连，它有很强的共价键（sp2杂化），它的晶格常数和石墨差不多，是2.5星。在水溶液中能迅速地形成水合硅酸根离子。石墨烯是零带隙的半导体，并且h-BN是宽带隙半导体，故又称“WhiteGraphene”。由于其独特的电子结构，使得它在光电子器件、场效应晶体管等方面有着广泛的应用前景，因而引起了人们极大地兴趣。h-BN直接带隙半导体，它的CBM与VBM均位于高对称点K处，带隙达到4.64eV。h-BN在机械操纵与化学相互作用方面均具有较强能力，并且在紫外范围还存在较大带隙。基于上述原因，h-BN在二维堆叠器件或者基板中被用作封装层时被优先考虑，它能提供原子平滑的面，并且没有任何悬挂键和电荷陷阱。另外，h-BN衬底对狄拉克点周围石墨烯能带结构影响接近于0，并明显提高石墨烯器件载流子迁移率，也使它在石墨烯基器件应用方面极具价值。

2.4硅烯类

硅烯类为一种很活泼的种类，其结构数据绝大多数处于极低温，通过从头算红外或者紫外光谱数据等方法获得。由于它们的分子具有特殊的几何构型和电子性质，因此这些化合物都有很好的光电化学特性和光学性能。简单硅烯在平面上，双键键长169~170皮·米，双键的旋转位垒约为40千卡/摩，极化Siδ+=Cδ-振动频率约为1000厘米?1，紫外吸收为245~260纳米。制备方法：1硅环丁烷或硅环丁烯的热解或光解：2硅偶氮烷的光解反应（Et为乙基）：3消盐反应（t–Bu为叔丁基）：4丁基锂与乙烯基氯硅烷的加成反应（Ph为苯基）：也可采用多硅锂试剂和酮进行反应、二或者光解多硅烷基烯烃或者芳烃、将硅烯和格利雅试剂反应，制得。

2.5二维黑磷材料

从二维黑磷材料异质结结构组成出发，它可分为由纵向堆