多层缺陷石墨烯薄膜杨氏模量的分子动力学研究 (2).docx

多层缺陷石墨烯薄膜杨氏模量的分子动力学研究 (2).docx

  1. 1、本文档内容版权归属内容提供方,所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议,可选择认领,认领后既往收益都归您。。
  2. 2、本文档由用户上传,本站不保证质量和数量令人满意,可能有诸多瑕疵,付费之前,请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形,可联系本站下载客服投诉处理。
  3. 3、文档侵权举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多

论文(设计)题目:多层缺陷石墨烯薄膜杨氏模量的分子动力学研究。

内容提要

本文主要运用分子动力学方法采用纳米压痕理论测量多层缺陷石墨烯薄膜的杨氏模量。主要实验对象有单空位缺陷(SV缺陷)、双空位缺陷(DV缺陷)、Stone-Wales缺陷(SW缺陷)。

其主要实验内容有:

利用纳米压痕理论,使用Lammps计算拟合出应力与应变的关系(力与扰度),再使用计算公式进一步拟合出层数与杨氏模量的变化关系。本文探究1-15层缺陷石墨烯薄膜。

模拟得出三种缺陷(SV、DV、SW)的计算模型

将三种缺陷石墨烯薄膜数据与完美石墨烯相对比且三种缺陷再进行互相

您可能关注的文档

文档评论(0)

***** + 关注
实名认证
内容提供者

乐于分享,有偿帮助。

版权声明书
用户编号:8070007123000004

1亿VIP精品文档

相关文档