基于原子层沉积技术的光学薄膜表面微结构生长.pdf

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摘要

薄膜技术作为现代材料科学中的一项重大突破,其在改变光学材料的结构、

电学、磁学、光学和机械性能方面具有重要的作用。薄膜可以通过物理或化学方

法制备,随着集成电路工艺技术的不断进步,化学气相沉积(ChemicalVapor

Deposition,CVD)和物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition,PVD)等技术难以满足

未来半导体发展的需求。在半导体器件向更小尺寸和更高性能发展背景下,沉积

技术不断发展,涌现出如原子层沉积(AtomicLayerDeposition,AL

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