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ChemicalSupplySystem
化学品供应系统简介
课程大纲系统之目的化学品之种类与用途系统之基本要求化学品供应质量要求系统之流程图CDU之流程图TEE-BOX之构造VMB之构造SAMPLINGBOX之构造系统设备之材料要求运转操作注意事项
供应高纯度化学品以清洗芯片上之杂质、微粒子供应高纯度化学品以显影芯片图案供应高纯度化学品以研磨芯片供应高纯度化学品以蚀刻芯片图案供应高纯度化学品以为化学气相沉积前置反应物供应高纯度化学品以清洗制程设备零配件系统之目的
化学品之种类与用途(一)酸性:腐蚀性:H2SO4,HCl,HNO3,HF,H3OP4...毒性:HF,HNO3,Poly-Mix,BOE...碱性:NH4OH,KOH,Developer...有机溶剂易燃液体:IPA,Acetone,NBA,光阻液...腐蚀性有机溶剂:EKC,EBR,HMDS...氧化性:HNO3,H2O2...
化学品之种类与用途(二)
系统之基本要求操作安全：腐蚀性、毒性、耐压、防爆之考虑化学品零污染：与化学品接触部份完全与化学品
兼容微粒子控制：过滤器循环过滤满足最大需求流量：高浓度化学品如H2SO4、
H3PO4自动控制操作运转：系统单元与机台界面自动化取样分析：系统、管路之粒子数、金属离子含量
取样分析泄漏警报：侦测泄漏及紧急关闭系统(EMO)系统诊断：Pump、Filter、Valve运转时数维修保养管路AutoPurge/Flush功能化学品用量统计
化学品供应质量要求
系统之流程图(一)CCBStorge
Tank
12m3CDUVMBTTTVMBVMBVMBTool-1Tool-2Tool-3Tool-46m3Tote
1m3200LDrum化学槽车充填衔
接站将化学品由
槽车以N2加压直
接输送至Tank适合使用量较
大之化学品,如
H2O2,H2SO4等适合使用量中
等之化学品,如
HF,H3PO4等适合使用量较
小之化学品,如
BOE,HNO3等将化学品经循环
过滤,再经N2或
Pump加压输送
至有需求之生产
机台内将化学品经管路分
配至不同生产机台S可依实际用量需求选择使用TeeBoxSamplingBox
系统之流程图(二)ProvidedBySystemsChemistry,INC1FMCS2OCP3HUB4CDU5VMB6Tool7TeeBox8
系统之流程图(三)TOOL
机台OCPSCADA
ComputerHUBCDUT-BOX主管路GN2加强讯号循环过滤25”后供酸启动CDU循环过滤后，同时由OCP供应GN2，
打开VMB内气动阀，将化学品供应至TOOLCHEMICALLINEGN2LINESIGNALLINE供酸VMB泄漏警报
系统之流程图(四)ToolSideOCPSideTroubleReadyStopRequestElectricSignalInterfaceBetweenBCDSToolEMO1.当机台需求化学品时,传送Request讯号给OCP．
2.OCP收到讯号后,会先检查CDU是否Ready供应
若是，则回传Ready讯号．若否，则回传Trouble讯号
3.机台端EMO被压下时，则停止供应化学品．+24V+24V+24V
CCB之流程图CDUProvidedByNOVA1GN2
inlet2Storage
Tank3充填槽车4
CDU之流程图(型一)TankProvidedByNOVA1Outlet2Pump3Transfer
Filter4Supply
Filter5GN2
inlet6CDA
inlet7Drum8DayTank9
CDU之流程图(型二)OutletProvidedBySystemsChemistry,INCTankTrans/Rec
FilterDrumPumpSupply
Filter
TEE-BOX之构造主管路主管路VMBDrainPort手动阀箱体内侧下方装
设泄漏侦测器ProvidedByNOVA1.箱体以PP制成
2.CPVC外盖
3.箱体与外盖间以
O-Ring密合
4.管件以PFA制成一般酸碱类适用
VMB之构造箱体内侧下方装
设泄漏侦测器DrainPortinletToToolsCDAinletFrom
OCPto气动阀ForTheFutureUsePurgeinletDrainPortExhaust气动阀手动阀保养管路时需先
以PN2将化学品
Purge至机台端
Drain4132ProvidedByNOVA1.箱体以PP制成
2.
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