非线性光学发色团：结构优化、合成路径与性能关联的深度剖析.docx

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2025-12-15 发布于上海
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非线性光学发色团：结构优化、合成路径与性能关联的深度剖析

一、引言

1.1研究背景

随着现代科技的飞速发展，光学领域的研究取得了显著的突破，非线性光学作为其中的重要分支，在众多领域展现出了巨大的应用潜力。非线性光学发色团作为非线性光学材料的关键组成部分，因其独特的光学性质而备受关注。当光与物质相互作用时，在一般情况下，光的强度较低，物质对光的响应呈线性关系，如光的折射、反射等现象都可以用线性光学理论来解释。然而，当光的强度足够高时，物质对光的响应不再遵循线性规律，会产生一系列非线性光学效应，如二次谐波产生、三次谐波产生、光学Kerr效应等。这些非线性光学效应的产生源于物质内部电子云在强光