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磁控溅射制备Ti膜的结构与性能的多维度探究

一、引言

1.1研究背景与意义

在材料科学与工程领域，薄膜材料因其独特的性能和广泛的应用前景，一直是研究的热点之一。随着现代科技的飞速发展，对薄膜材料的性能要求越来越高，不仅需要具备良好的力学性能、电学性能、光学性能等，还要求具有高度的稳定性和可靠性。磁控溅射技术作为一种重要的薄膜制备方法，在众多领域得到了广泛的应用和深入的研究。

磁控溅射技术是在高真空环境下，利用磁场约束电子的运动轨迹，增加电子与气体分子的碰撞概率，从而提高等离子体密度和溅射效率的一种物理气相沉积方法。该技术具有沉积速率高、薄膜质量好、附着力强、可制备多种材料薄膜等优点，能够满足