氘化钛真空镀膜系统开发技术的深度剖析与创新实践.docx

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2025-12-21 发布于上海
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氘化钛真空镀膜系统开发技术的深度剖析与创新实践

一、引言

1.1研究背景与意义

真空镀膜技术自20世纪30年代初现以来，历经了从初步探索到逐步成熟，再到广泛应用的发展历程。在19世纪，科学家们主要采用化学湿选法淀积银镜膜，这是最早的光学薄膜制备技术，但因制备过程复杂、成本高昂，难以大规模应用。随后，真空蒸发镀膜法出现，其原理是在真空条件下加热蒸发材料源，使原子或分子气化逸出并凝结在固体表面形成薄膜。然而，这种方法存在蒸发源寿命短、薄膜质量不稳定等问题。进入20世纪，溅射镀膜技术兴起，利用高能离子轰击靶材，使靶材表面原子或分子溅射出来沉积在基体表面形成薄膜，该方法制备的薄膜具