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化学气相沉积钨显微组织缺陷的形成与控制

沈艳波;于晓东;谭成文;王富耻;马红磊;才鸿年

【摘要】以WF6为前驱体，采用化学气相沉积法(CVD)在纯铜基体上沉积出钨涂层。利用光学显微镜(OM)和扫描电镜(SEM)分析研究钨制品组织缺陷的形成。结果表明：反应物浓度起伏对化学气相沉积钨的显微组织具有显著影响。当n(WF6)：n(H2)≥1：3时，沉积物为柱状晶组织；当n(WF6)：n(H2)＜1：3时，该沉积层晶粒明显细化，显微组织为细晶层状结构。另外，沉积过程中杂质形状也显著影响沉积层的显微组织。当基体表面存在一维杂质时，沉积制品表面产生明显的凸起，严重影响制品的表面质量和显微组织的均匀性；当沉积过程中存在零维杂质时，沉积层出现放射状的组织结构。%TungstencoatingsweredepositedonpurecoppersubstratesusingWF6astheprecursorbychemicalvapordeposition(CVD)method.TheformationofthemicrostructuredefectsofthetungstendepositswasanalyzedbyOMandSEM.Theresultsshowthatthereactantconcen