材料表面工程期末复习题试卷及答案.docxVIP

材料表面工程期末复习题试卷及答案

考试时间：______分钟总分：______分姓名：______

一、选择题（每题2分，共20分）

1.下列哪种技术不属于典型的物理气相沉积（PVD）方法？

A.真空蒸镀

B.溅射沉积

C.化学气相沉积

D.溅射镀

2.表面能较高的材料通常表现出更强的？

A.附着力

B.脆性

C.导电性

D.耐腐蚀性

3.离子注入技术中，用于加速离子的电场装置是？

A.电解槽

B.阴极

C.阳极

D.加速器

4.下列关于溶胶-凝胶法的描述，错误的是？

A.通常在低温下进行

B.可以制备陶瓷、玻璃或涂层

C.需要使用高沸点溶剂

D.成膜过程不涉及水解和缩聚反应

5.表面硬度较高的涂层，其主要目的是提高工件的？

A.耐磨性

B.导热性

C.透光性

D.电绝缘性

6.在电镀过程中，待镀工件连接到电解池的？

A.正极

B.负极

C.中性极

D.不连接

7.涂层与基体之间的结合强度是评价涂层性能的重要指标，其单位通常为？

A.帕斯卡（Pa）

B.牛顿（N）

C.公斤力/平方厘米（kgf/cm2）

D.摩尔（mol）

8.用于提高材料抵抗化学介质侵蚀能力的表面工程技术是？

A.表面抛光

B.表面硬化

C.表面改性

D.防腐涂层

9.生物相容性是评价医用材料表面性能的关键指标，它主要涉及材料的？

A.强度和刚度

B.耐磨损性和耐腐蚀性

C.与生物组织的相互作用

D.导电性和导热性

10.表面工程技术在微电子工业中主要应用在？

A.提高材料的力学性能

B.增强材料的耐腐蚀性

C.实现微纳结构的加工和功能化

D.降低材料的成本

二、填空题（每空1分，共15分）

1.表面工程是通过改变材料表面的成分、组织或性能，以获得特定功能的技术的总称。

2.离子束辅助沉积（IBAD）技术结合了离子注入和__________沉积的优点。

3.提高材料的表面能通常可以增强涂层的__________。

4.氧化物涂层可以通过__________等化学方法制备。

5.在等离子体喷涂过程中，熔融的涂层颗粒通过高速气流__________到基体表面。

6.涂层的__________是指涂层在垂直方向上抵抗开裂和剥落的能力。

7.电镀液中的金属离子通过电解作用在工件表面__________，形成金属镀层。

8.表面工程技术可以显著改善材料的__________、__________和__________等性能。

9.离子注入的深度主要取决于离子注入的__________和材料对离子的__________。

10.__________是指液体在固体表面展开成薄膜的能力。

三、名词解释（每题3分，共15分）

1.表面改性

2.涂层结合强度

3.等离子体

4.化学气相沉积（CVD）

5.润湿性

四、简答题（每题5分，共20分）

1.简述等离子体增强化学气相沉积（PECVD）的基本原理及其优点。

2.简述影响涂层与基体结合强度的主要因素。

3.简述离子注入技术中，入射离子在材料中可能发生的两种损伤机制。

4.简述表面工程技术在延长机械零件使用寿命方面的作用。

五、论述题（10分）

试述化学气相沉积（CVD）技术在制备功能薄膜（如硬质涂层、超硬涂层、导电涂层等）方面的应用特点及其优势。

试卷答案

一、选择题

1.C

*解析思路：化学气相沉积（CVD）是典型的化学气相沉积方法，利用气态前驱体在热表面发生化学反应沉积薄膜。A（真空蒸镀）和B（溅射沉积）是物理过程，D（溅射镀）是溅射技术的简称。C（化学气相沉积）与PVD并列，属于化学沉积类。

2.A

*解析思路：表面能高的材料表面自由能大，倾向于通过吸附或形成涂层等方式降低自由能，从而更容易与其他物质（如基体、涂层）发生物理作用，表现出较强的附着力。

3.D

*解析思路：离子注入技术利用高电压电场产生电场力，将带电离子加速，使其获得足够高的能量轰击并进入材料表层。A（电解槽）用于电镀。B（阴极）和C（阳极）是电化学装置中的电极。D（加速器）是实现离子加速的核心部件。

4.D

*解析思路：溶胶-凝胶法涉及前驱体溶液的水解