硒化氢合成工艺优化与气体标准物质的精准制备研究.docx

硒化氢合成工艺优化与气体标准物质的精准制备研究.docx

  1. 1、本文档内容版权归属内容提供方,所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议,可选择认领,认领后既往收益都归您。。
  2. 2、本文档由用户上传,本站不保证质量和数量令人满意,可能有诸多瑕疵,付费之前,请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形,可联系本站下载客服投诉处理。
  3. 3、文档侵权举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多

硒化氢合成工艺优化与气体标准物质的精准制备研究

一、引言

1.1研究背景与意义

随着科技的飞速发展,半导体工业已成为现代电子产业的核心支柱。在半导体工业生产中,几乎各个工序都会用到超高纯气体,这些气体的纯净度对器件的质量起着决定性作用。在众多超纯气体中,硒化氢(H_2Se)作为生产半导体材料的重要原材料和还原气,具有不可替代的地位。它主要用于生产半导体器件时形成P-N结、保护层和隔离层,在国防尖端、航天航空等领域有着至关重要的应用,是一种急需的高纯气体。

近年来,全球半导体市场规模持续扩大,根据市场研究机构的数据,2023年全球半导体市场规模达到了约6000亿美元,预计到2030年

文档评论(0)

zhiliao + 关注
实名认证
内容提供者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档