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成半导体制造工艺流程
成
半导体制造工艺流程
半导体制造工艺流程
让我们和迈博瑞一起成长
作者：RichardLiu
半导体制造工艺流程——刻蚀
刻蚀
刻蚀
刻蚀（Etch），它是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻相联系的图形化（pattern）处理的一种主要工艺。
*实际上狭义理解就是光刻腐蚀，先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理，然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分。随着微制造工艺的发展。
*广义上来讲，刻蚀成了通过溶液、反应离子或其它机械方式来剥离、去除材料的一种统称，成为微加工制造的一种普适叫法。
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