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摘要
硅(Si)由于具有较高的理论比容量(4200mAh/g)成为锂离子电池负极候选材料之
一,但是锂化过程中的体积膨胀是Si负极实际应用的主要瓶颈。目前,利用具有优异电
学及力学性能的石墨烯(Gra)与Si复合改性是缓解Si体积膨胀的有效方法之一,在石
墨烯制备过程中产生的结构缺陷会直接影响Si/Gra体系的电子性质及储锂性能。本文基
于第一性原理采用密度泛函理论,计算了Si/Gra体系的电子结构、电荷密度、扩散能垒
和扩散系数等电化学性质,研究了不同缺陷结构的
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