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4.功率器件结构与制造工艺
在功率半导体器件的设计和仿真中,理解器件的结构和制造工艺是至关重要的。这一节将详细介绍功率器件的基本结构、主要类型以及制造工艺,为后续的仿真提供坚实的基础。
4.1功率器件的基本结构
功率半导体器件(如MOSFET、IGBT、二极管等)的基本结构决定了其电气特性和性能。了解这些基本结构有助于在仿真过程中准确建模和分析。
4.1.1Si基功率MOSFET
Si基功率MOSFET(金属氧化物场效应晶体管)是一种常用的功率器件,其基本结构包括以下几个部分:
源极(Source):通常是P+掺杂的区域,连接到器件的输入端。
漏极
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