2026年口腔正畸学考试题库带答案(完整版).docxVIP

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2026年口腔正畸学考试题库

第一部分单选题(50题)

1、关于微种植体支抗(MIA)的应用,下列哪项是错误的?

A.提供绝对支抗

B.适用于骨量不足区域

C.植入部位主要在腭中缝

D.可辅助内收前牙

【答案】:C

2、关于正畸治疗中颞下颌关节紊乱病(TMD)的风险,目前的主流观点是?

A.正畸治疗是TMD的主要病因

B.正畸治疗可以predictably治疗TMD

C.正畸治疗与TMD的发生发展无明确因果关系

D.正畸治疗必须避免改变咬合,以防TMD

【答案】:C

3、关于开颌的描述,以下哪项是正确的?

A.前牙覆颌过大

B.上下前牙在垂直向无接触

C.属于AngleII类错颌的特有表现

D.只能通过手术治疗

【答案】:B

4、Angle错颌分类法主要是以下列哪颗牙为基准?

A.上颌第一前磨牙

B.上颌第一磨牙

C.下颌第一磨牙

D.下颌第一前磨牙

【答案】:B

5、直丝弓矫治技术中,托槽预置的数据不包括?

A.轴倾角

B.转矩角

C.旋转角

D.牙冠厚度

【答案】:D

6、在正畸治疗中,下列哪种情况最可能导致牙髓活力丧失?

A.轻度的牙根吸收

B.过大的矫治力

C.牙齿的生理性移动

D.正常的牙槽骨改建

【答案】:B

7、下列哪项指标通常用于评估面部垂直向发育是否异常?

A.SNA角

B.SNB角

C.下颌平面角(MP-SN或FMA)

D.ANB角

【答案】:C

8、下列哪种情况通常被认为是正畸治疗的绝对禁忌症?

A.牙周炎活动期

B.轻度牙列拥挤

C.深覆颌

D.开颌

【答案】:A

9、关于正畸治疗后的稳定性,下列哪项描述最准确?

A.所有正畸治疗结果都是稳定的,无需保持

B.牙齿移动后,牙周纤维的改建约需3-6个月

C.下前牙拥挤的复发率最高,长期保持甚至终身保持可能是必要的

D.生长发育是影响稳定性的唯一因素

【答案】:C

10、正畸治疗中,防止龈炎最重要的措施是?

A.使用含氟牙膏

B.定期洁治

C.良好的菌斑控制

D.使用漱口水

【答案】:C

11、关于正畸力与矫形力的区别,下列描述正确的是?

A.正畸力主要引起牙槽骨改建,矫形力主要引起颌骨生长改建

B.正畸力力量较大,矫形力力量较小

C.正畸力用于成人,矫形力用于儿童

D.两者没有本质区别

【答案】:A

12、下列哪种情况最可能导致正畸治疗后的复发?

A.牙周组织改建未完成

B.生长潜力未耗尽

C.异常的肌功能习惯未破除

D.以上都是

【答案】:D

13、关于骨性III类错颌的矫治,下列哪项描述最准确?

A.仅通过正畸治疗即可获得理想效果

B.生长发育期患者可通过功能性矫治器引导下颌后退

C.成年患者必须采用正颌外科手术联合正畸治疗

D.无论年龄大小,均可通过掩饰性正畸治疗获得满意效果

【答案】:C

14、在拔除四个第一前磨牙的病例中,关闭间隙时,为防止前牙过度内收,需要加强哪种支抗?

A.上颌前牙支抗

B.上颌后牙支抗

C.下颌前牙支抗

D.下颌后牙支抗

【答案】:B

15、在正畸治疗中,下列哪种情况最需要考虑正颌外科手术联合治疗?

A.轻度的牙列拥挤

B.中度的深覆颌

C.严重的骨性错颌畸形

D.简单的牙齿排列不齐

【答案】:C

16、直丝弓矫治器的理论基础是?

A.方丝弓技术

B.Begg细丝弓技术

C.预置牙齿的理想转矩、轴倾度和旋转

D.多曲方丝弓技术

【答案】:C

17、关于正畸治疗与牙周健康的关系,错误的是?

A.排列整齐的牙齿有利于菌斑控制

B.正畸治疗期间必须加强口腔卫生维护

C.对于已有牙周炎的患者,正畸治疗是绝对禁忌

D.适当的正畸力有助于牙周组织改建

【答案】:C

18、下列哪项指标通常不作为正畸治疗结束的标准?

A.磨牙关系达到中性

B.前牙覆合覆盖正常

C.牙列完全排齐

D.患者对美观极度满意而拒绝继续调整

【答案】:D

19、对于存在颞下颌关节紊乱病(TMD)的患者进行正畸治疗,以下原则正确的是?

A.TMD是正畸治疗的绝对禁忌症

B.正畸治疗可以根治所有类型的TMD

C.治疗目标应是建立稳定的、可重复的颌位,而非追求理想的咬合关系

D.应优先考虑将下颌前导至前伸位

【答案】:C

20、正畸治疗中最常见的牙移动类型是?

A.倾斜移动

B.整体移动

C.压低移动

D.伸长移动

【答案】:A

21、下列哪项指标是评估上气道通畅程度的头影测量项目?

A.PAS(后气道间隙)

B.SNA角

C.IMPA角

D.FMA角

【答案】:A

22、在正畸治疗中,实现上颌磨牙的远中移动,下列哪种方法提供的支抗最强?

A.Nance

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