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高端半导体制造2025年刻蚀工艺技术创新与应用参考模板
一、高端半导体制造2025年刻蚀工艺技术创新与应用
1.1刻蚀工艺在半导体制造中的重要性
1.2刻蚀工艺技术的发展趋势
(1)极紫外光(EUV)刻蚀技术的成熟与普及
(2)纳米刻蚀技术的研发
(3)三维结构器件的刻蚀工艺
1.3刻蚀工艺的创新技术
(1)新型刻蚀材料的研究
(2)刻蚀工艺参数的优化
(3)刻蚀设备的智能化
1.4刻蚀工艺在高端半导体制造中的应用
(1)逻辑器件的制造
(2)存储器件
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