基于溅射工艺的NdFeB永磁薄膜性能优化与模拟研究.docxVIP

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2026-01-15 发布于上海
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基于溅射工艺的NdFeB永磁薄膜性能优化与模拟研究

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代电子领域的快速发展进程中，磁性材料扮演着举足轻重的角色，广泛应用于电机、磁性传感器、计算机硬盘、信息存储、医疗设备、能源转换等诸多关键领域。其中，NdFeB永磁材料凭借其高能积、高矫顽力和高能量密度等卓越特性，自1983年问世以来，便迅速在众多领域崭露头角，成为第三代稀土永磁材料的杰出代表，被誉为“磁王”，在稀土磁性材料中占据核心地位。

随着电子设备不断向小型化、轻量化、高性能化方向发展，对磁性材料的性能和尺寸提出了更为严苛的要求。在这种趋势下，永磁薄膜作为一种新型的磁性材料形态应运而生，尤其