CN115716570B 用于制造缓冲衬垫的方法、装置及缓冲衬垫 (杭州丙甲科技有限公司).docxVIP

CN115716570B 用于制造缓冲衬垫的方法、装置及缓冲衬垫 (杭州丙甲科技有限公司).docx

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(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN115716570B(45)授权公告日2025.07.04

(21)申请号202211449249.1

(22)申请日2022.11.18

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN115716570A

(43)申请公布日2023.02.28

(73)专利权人杭州丙甲科技有限公司

地址310000浙江省杭州市余杭区余杭街

道文一西路1818-2号11幢702室

(72)发明人刘玉贵盛天德张丹波阙银龙

(74)专利代理机构北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙)11400

专利代理师陈莉娥王鹏

(51)Int.CI.

(56)对比文件

CN103862723A,2014.06.18CN112297508A,2021.02.02

CN109964969A,2019.07.05CN218778038U,2023.03.31审查员赵月霞

B65D81/107(2006.01)

权利要求书3页说明书12页附图10页

(54)发明名称

用于制造缓冲衬垫的方法、装置及缓冲衬垫

(57)摘要

CN115716570B本发明公开一种用于制造缓冲衬垫的方法、装置及缓冲衬垫,其中,缓冲衬垫包括衬垫本体,衬垫本体上设置有褶皱区域,褶皱区域包括至少两个具有波峰和/或波谷的褶皱,所有的褶皱沿衬垫本体的长度方向排布;衬垫本体上具有弯折部,以在所述衬垫本体的位于弯折部的两侧分别形成第一本体和第二本体,第一本体和第二本体两者中的至少一者上包含褶皱区域;且缓冲衬垫的横截面呈接近“V”字型的结构,或第一本体的接近弯折部的至少部分表面与第二本体的接近弯折部的至少部分表面相互贴合,以使缓冲衬垫的横截面呈“Y”字型;弯折部的延伸方向设置成大致沿衬垫本体的长度方向设置。以使缓冲衬垫

CN115716570B

CN115716570B权利要求书1/3页

2

1.缓冲衬垫,其特征在于,包括至少一层衬垫本体,所述衬垫本体上设置有褶皱区域,所述褶皱区域包括至少两个具有波峰和/或波谷的褶皱,所有的褶皱沿所述衬垫本体的长度方向排布;

所述衬垫本体上具有弯折部,以在所述衬垫本体的位于弯折部的两侧分别形成第一本体和第二本体,所述弯折部、第一本体和第二本体包含所述褶皱区域;

且所述弯折部、第一本体的接近所述弯折部的部位和第二本体的接近所述弯折部的部位三者经过碾压或挤压这一定型处理,以使所述缓冲衬垫的横截面呈接近“V”字型的结构,或使所述第一本体的接近所述弯折部的至少部分表面与第二本体的接近所述弯折部的至少部分表面相互贴合,以使所述缓冲衬垫的横截面呈“Y”字型;

所述弯折部的延伸方向设置成大致沿所述衬垫本体的长度方向设置。

2.根据权利要求1所述的缓冲衬垫,其特征在于,所述第一本体与第二本体的接近所述弯折部的至少部分表面相互贴合实现为:

所述第一本体还具有第一褶皱处,所述第二本体还具有第二褶皱处,且至少一处第一褶皱处与至少一处第二褶皱处相嵌合,以在嵌合处实现第一本体与第二本体部分表面的贴合。

3.缓冲衬垫的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

S10:对至少一层原料片进行弄皱处理,以在原料片上形成至少两个具有波峰和/或波谷的褶皱且所有的褶皱沿所述原料片的长度方向排布的褶皱区域,以形成衬垫本体;

S20:对具有褶皱区域的衬垫本体进行弯折处理,在所述衬垫本体上形成弯折部,以在所述衬垫本体的位于弯折部的两侧分别形成第一本体和第二本体,并使弯折部、第一本体和第二本体上均保留褶皱区域;

在步骤S20之后还包括步骤S30:对所述第一本体和第二本体进行定型处理,所述定型处理通过对所述弯折部、第一本体的接近所述弯折部的部位和第二本体的接近所述弯折部的部位三者进行碾压或挤压实现,以使所述缓冲衬垫的横截面呈接近“V”字型的结构;

或在步骤S20之后还包括步骤S30:对所述第一本体和第二本体进行定型处理,以使所述第一本体的接近所述弯折部的至少部分表面与第二本体的接近所述弯折部的至少部分表面相互贴合,以使所述缓冲衬垫的横截面呈“Y”字型;

其中,所述弯折部的延伸方向大致沿所述衬垫本体的长度方向设置。

4.根据权利要求3所述的缓冲衬垫的制备方法,其特征在于,在步骤S10中,对原料片进行弄皱处理时,形成的褶皱的波峰的波峰线和波谷的波谷线与所述衬

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