深度解析(2026)《GBT 29844-2013用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范》.pptxVIP

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目录

一、国家标准GB/T29844-2013的诞生背景与核心价值：为何它是先进光刻工艺评估的“标尺”与未来技术演进的基石？

二、深度剖析标准适用范围与关键术语定义：专家视角解读如何精准界定“先进工艺”与“评估图形”的内涵与外延。

三、图形库架构设计的智慧：揭秘标准如何通过系统化、模块化的图形分类体系构建工艺评估的“全景地图”。

四、从设计到硅片：专家(2026年)深度解析标准中关键评估图形的设计规则、几何特征及其对工艺窗口的挑战。

五、光刻工艺综合评估的核心方法论：标准如何指导通过图形转移结果进行分辨率、线宽均匀性等关键指标的量化分析。

六、套刻精度评估的图形策略与测量学