CN119285816A 含氟聚合物的制造方法 （大金工业株式会社）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119285816A(43)申请公布日2025.01.10

(21)申请号202411466927.4

(22)申请日2020.11.19

(30)优先权数据

2019-2091542019.11.19JP

(62)分案原申请数据

202080078031.22020.11.19

(51)Int.CI.

C08F

C08F

C08F

C08F

C08F

16/24(2006.01)

16/26(2006.01)

14/18(2006.01)2/00(2006.01)6/00(2006.01)

(71)申请人大金工业株式会社地址日本大阪府大阪市

(72)发明人山中拓东昌弘加藤丈人

市川贤治藤本阳平入江正树

土屋壮司汤浅飒太

(74)专利代理机构北京三友知识产权代理有限

公司11127

专利代理师崔立宇庞东成

权利要求书1页说明书99页

(54)发明名称

含氟聚合物的制造方法

(57)摘要

提供一种含氟聚合物的制造方法，其包括：在实质上不存在含氟表面活性剂(其中不包括通式(I)所示的单体(I))的条件下在水性介质中将通式(I)所示的单体(I)聚合，由此得到含有单体(I)的聚合物的粗组合物的工序；将上述粗组合

CN119285816A物中包含的单体(I)的二聚物和三聚物从上述粗组合物中除去，由此得到单体(I)的二聚物和三聚物的含量相对于聚合物(I)为1.0质量%以下的聚合物(I)的工序；和在聚合物(I)的存在下在水性介质中将含氟单体聚合，由此得到含氟聚合物的工序。Cx1x3=cx2R(-cZ1z2-A)(I)(式中，X1和x3各自独立地为F、C1、H或CF?;X2为H、F、烷基或含氟烷基；A?为阴离子性基团；R为连接基团；Z1和z2各自独立地为H、F、烷基或含氟烷基；

CN119285816A

CN119285816A权利要求书1/1页

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1.一种含氟聚合物的制造方法，其包括：

在实质上不存在含氟表面活性剂的条件下在水性介质中将通式(I)所示的单体(I)聚合，由此得到含有单体(I)的聚合物的粗组合物的工序，其中，所述含氟表面活性剂不包括通式(I)所示的单体(I);

将所述粗组合物中包含的单体(I)的二聚物和三聚物从所述粗组合物中除去，由此得到单体(I)的二聚物和三聚物的含量相对于聚合物(I)为1.0质量%以下的聚合物(I)的工序；和

在聚合物(I)的存在下在水性介质中将含氟单体聚合，由此得到含氟聚合物的工序，

cx1x3=cx2R(-cz1z2-A?)(I)

式中，X1和x3各自独立地为F、C1、H或CF?;x2为H、F、烷基或含氟烷基；A?为阴离子性基团；R为连接基团；Z1和Z2各自独立地为H、F、烷基或含氟烷基；m为1以上的整数。

2.如权利要求1所述的制造方法，其中，单体(I)的分子量为500以下。

3.如权利要求1或2所述的制造方法，其中，A为-CO0M、-SO?M、-0SO?M或-C(CF?)?0M,M为-

H、金属原子、-NR?4、具有或不具有取代基的咪唑、具有或不具有取代基的吡啶或者具有或不具有取代基的磷，R?为H或有机基团。

4.如权利要求1～3中任一项所述的制造方法，其中，A°为-COOM,M为-H、金属原子、-NR??、具有或不具有取代基的咪唑、具有或不具有取代基的吡啶或者具有或不具有取代基的磷，R?为H或有机基团。

5.如权利要求1～4中任一项所述的制造方法，其中，单体(I)为通式(1)所示的单体，

CX?=CY(-CZ?-0-Rf-A)(1)

式中，X相同或不同，为-H或F,Y为-H、-F、烷基或含氟烷基，Z相同或不同，为-H、-F、烷基或氟代烷基；Rf是碳原子数为1～40的含氟亚烷基、或者碳原子数为2～100的具有醚键的含氟亚烷基；A为-COOM、-SO?M、-0SO?M或-C(CF?)?0M,M为-H、金属原子、-NR?4、具有或不具有取代基的咪唑翁、具有或不具有取代基的吡啶或者具有或不具有取代基的磷，R?为H或有机基团；其中，X、Y和Z中的至少1个包含氟原子。

6.如权利要求1～5中任一项所述的制造方法，其中，单体(I)为通式(1A)所示的单体，CH?=CF(-CF?-0-Rf