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局域表面等离子体纳米光刻：原理剖析与方法探究

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代科技飞速发展的浪潮中，半导体制造作为信息技术产业的核心基石，其重要性不言而喻。从智能手机、电脑等日常电子设备，到人工智能、大数据、云计算等前沿科技领域，半导体芯片都扮演着关键角色，是推动这些技术进步与创新的核心动力。而光刻技术，作为半导体制造的核心工艺，犹如工匠手中的刻刀，决定着芯片制造的精度和性能，对半导体产业的发展起着决定性作用。

光刻技术的基本原理是利用光的特性，将掩模上设计好的电路图案精确地转移到半导体材料表面的光刻胶上，经过显影、蚀刻等后续工艺，最终在半导体材料上形成所需的微观电路结构。随着科技的不