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第４０卷第２期平顶山学院学报Ｖｏｌ．４０Ｎｏ．２

２０２５年４月ＪｏｕｒｎａｌｏｆＰｉｎｇｄｉｎｇｓｈａｎＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙＡｐｒ．２０２５

纳米片薄膜材料的制备及光电性能分析研究

孙

（安徽三联学院工学部，安徽合肥２３０６０１）

摘要：以钨粉、钨酸钠、去离子水、盐酸等为原料，通过水热法制备水合三氧化钨薄膜，经煅烧处理后

获取ＷＯ纳米片阵列薄膜材料．结合扫描电镜、光电流和光电催化测试分析不同水热时间、不同煅烧温度以及

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不同盐酸溶液浓度下薄膜材料的光电性能．结果显示：水热时间３ｈ，ＷＯ薄膜光电流最大，并且５０ｍｉｎ时光电催

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化降解率较１ｈ和５ｈ样品分别高出２０％和１０％．煅烧温度上升使薄膜表面产生褶皱和微小裂纹，光电流密度

和功率先升后降；煅烧４５０℃时，填充因子０．８５，光电转换效率３．９３％；而５５０℃时结构破坏，电流衰减．随着盐

酸溶液浓度的增加，纳米片外观由杂乱到完整再到形成密集氧化物，同时ＷＯ薄膜光电性能先增后减．综上可知，

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水热时间为３ｈ、煅烧温度为４５０℃、盐酸溶液浓度为１．５ｍｏｌ·Ｌ时，ＷＯ纳米片阵列薄膜材料光电性能最佳．

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关键词：纳米片；水热法；材料制备；煅烧温度；水热时间；性能分析

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中图分类号：Ｏ４７２．８；ＴＱ１３６．１３文献标识码：Ａ文章编号：１６７３－１６７０（２０２５）０２－００３０－０５

单，可控性强，但是不能对薄膜完成大面积制备，限

０引言

制了大规模产业化生产．

开发环保可再生能源（如太阳能）对解决能源水热法制备薄膜具有反应温度低、操作简单、

［１］

危机问题十分重要，需要研制高效稳定的电池原料丰富、成本低以及结晶度高等优点，适合大规

以有效利用太阳能．ＷＯ（三氧化钨）是一种可见［６］

３模投入生产．笔者应用水热反应制备ＷＯ薄膜，

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光响应良好、化学稳定性高和抗光腐蚀的半导体功并分析不同条件下的光电性能．

能材料，拥有良好的应用前景．然而，ＷＯ的光电

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１材料与方法

转化效率并不高，对可见光利用率低等问题限制了

［２］［３］

其开发和应用．张得全等采用凝胶法制备纳１．１试验材料与设备

米薄膜，把经过水解反应的钨粉和无机化合物凝聚１．１．１试验材料

形成溶胶，在基底上通过喷涂法将胶体附着基底表具体见表１．

面，采用热处理得到纳米薄膜．但该方法制备的薄表１试验材