CN114675447A 一种显示基板及其制作方法和显示装置 (北京京东方光电科技有限公司).docxVIP

  • 0
  • 0
  • 约8.85千字
  • 约 14页
  • 2026-02-01 发布于重庆
  • 举报

CN114675447A 一种显示基板及其制作方法和显示装置 (北京京东方光电科技有限公司).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN114675447A(43)申请公布日2022.06.28

(21)申请号202210302575.3

(22)申请日2022.03.24

GO2F1/1362(2006.01)

(71)申请人北京京东方光电科技有限公司

地址100176北京市北京经济技术开发区

西环中路8号

申请人京东方科技集团股份有限公司

(72)发明人乜玲芳王建张勇杨智超

赵欣欣邓祁王德生郝龙虎郭赞武

(74)专利代理机构北京银龙知识产权代理有限公司11243

专利代理师顾春天

(51)Int.CI.

GO2F1/1333(2006.01)

GO2F1/1335(2006.01)

权利要求书1页说明书5页附图1页

(54)发明名称

一种显示基板及其制作方法和显示装置

(57)摘要

CN114675447A本发明提供一种显示基板及其制作方法和显示装置。显示基板具有显示区和周边区,显示基板包括衬底和形成于衬底上的黑矩阵,黑矩阵由显示区延伸至周边区,且黑矩阵位于周边区的部分环绕显示区;位于周边区的黑矩阵上开设有沿垂直于衬底方向贯穿黑矩阵的开槽,开槽包括第一开槽和第二开槽,第一开槽沿显示区的边缘延伸,第二开槽与第一开槽并列设置,且第二开槽位于第一开槽远离显示区的一侧;开槽在衬底

CN114675447A

110

110

CN114675447A权利要求书1/1页

2

1.一种显示基板,其特征在于,所述显示基板具有显示区和周边区,所述显示基板包括衬底和形成于所述衬底上的黑矩阵,所述黑矩阵由所述显示区延伸至所述周边区,且所述黑矩阵位于所述周边区的部分环绕所述显示区;

位于所述周边区的黑矩阵上开设有沿垂直于所述衬底方向贯穿所述黑矩阵的开槽,所述开槽包括第一开槽和第二开槽,所述第一开槽沿所述显示区的边缘延伸,所述第二开槽与所述第一开槽并列设置,且所述第二开槽位于所述第一开槽远离所述显示区的一侧;

所述开槽在所述衬底上的正投影与驱动信号线在所述衬底上的正投影不交叠。

2.如权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述显示区包括沿第一方向延伸的第一直线边缘、沿第二方向延伸的第二直线边缘以及位于所述第一直线边缘和所述第二直线边缘之间的过渡边缘,所述过渡边缘沿曲线方向延伸,其中,所述第一方向和所述第二方向相交;

在所述第一直线边缘和所述第二直线边缘对应的周边区均开设有所述第一开槽;

在所述过渡边缘对应的至少部分周边区未开设所述第一开槽。

3.如权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板具有数据输出端,所述过渡边缘包括靠近所述数据输出端的第一过渡边缘和远离所述数据输出端的第二过渡边缘;

在所述第二过渡边缘对应的周边区未开设所述第一开槽。

4.如权利要求3所述的显示基板,其特征在于,在所述第二过渡边缘对应的周边区开设有所述第二开槽。

5.如权利要求3所述的显示基板,其特征在于,在所述第一过渡边缘对应的周边区开设有所述第一开槽。

6.如权利要求5所述的显示基板,其特征在于,所述第一直线边缘包括靠近所述数据输出端的第一子边缘和远离所述数据输出端的第二子边缘;

在所述第一子边缘对应的周边区、所述第一过渡边缘对应的周边区和所述第二直线边缘对应的周边区内,所述第一开槽连续设置。

7.如权利要求6所述的显示基板,其特征在于,在所述第一子边缘对应的周边区未开设所述第二开槽。

8.如权利要求4至7中任一项所述的显示基板,其特征在于,所述第二开槽连续设置。

9.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1至8中任一项所述的显示基板。

10.一种显示基板的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:

提供一衬底:

在所述衬底上形成黑矩阵,其中,所述显示基板具有显示区和周边区,所述黑矩阵由所述显示区延伸至所述周边区,且所述黑矩阵位于所述周边区的部分环绕所述显示区;

在所述黑矩阵上开设开槽,其中,所述开槽位于所述周边区,所述开槽沿垂直于所述衬底方向贯穿所述黑矩阵,所述开槽包括第一开槽和第二开槽,所述第一开槽沿所述显示区的边缘延伸,所述第二开槽与所述第一开槽并列设置,且所述第二开槽位于所述第一开槽远离所述显示区的一侧,所述开槽在所述衬底上的正投影与驱动信号线在所述衬底上的正投影不交叠。

CN114675447A

您可能关注的文档

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档