口腔正畸学(中级357)专业知识卫生专业技术资格考试巩固难点精析.docxVIP

卫生专业技术资格考试口腔正畸学(中级357)专业知识应考难点

一、错颌畸形分类与诊断

1.Angle错颌分类法的深度理解与临床应用

难点：准确区分Ⅰ类、Ⅱ类、Ⅲ类错颌的临床特征，特别是Ⅱ类1分类与Ⅱ类2分类的鉴别。

易错点：将“远中错颌”等同于“Ⅱ类错颌”，忽视上颌前突、下颌后缩、牙弓拥挤等组合表现。

应试重点：掌握Angle分类的牙性、骨性、功能性成分差异，能根据头影测量指标（如SNA、SNB、ANB角）辅助判断骨性基础。

2.毛燮均错颌畸形分类法的应用

难点：六类分类法中的第Ⅳ类（牙量骨量不调）与第Ⅴ类（个别牙错位）的临床辨识。

易错点：混淆“牙列拥挤”与“牙列稀疏”在分类中的归类依据。

应试重点：熟练运用牙量-骨量差值计算方法（如Bolton指数、Moyers预测法）辅助判断牙量不调。

二、生长发育与矫治时机

1.青春期生长高峰的预测与矫治窗口

难点：掌握手部X线片（骨龄）、颈椎成熟度（CVMS）、第二恒磨牙萌出时间等评估方法。

易错点：误认为“12岁”是唯一最佳矫治时机，忽略个体发育差异。

应试重点：理解生长改良治疗（如功能性矫治器）的最佳时机为生长高峰期前1~2年，而非高峰期本身。

2.早期矫治适应症与禁忌症

难点：区分“可干预性”与“不可干预性”问题，如：

乳磨牙早失→恒牙萌出障碍（可干预）

上颌中切牙重度唇倾→是否需早期干预？

易错点：过度扩大早期矫治范围，忽视“观察等待”原则。

应试重点：牢记三大早期矫治指征：

严重骨性畸形（如骨性Ⅲ类）

功能性咬合异常（如前牙反颌、口呼吸）

妨碍正常发育的不良习惯（如吮指、舌推）

三、矫治器设计与生物力学原理

1.固定矫治器的力学系统

难点：

差动移动（如倾斜移动与整体移动）的力值控制与支抗设计。

第三类支抗（如微螺钉种植体）与强支抗（如Nance弓、横腭杆）的应用场景。

易错点：混淆“轻力持续”与“重力间断”的效应，误认为力量越大矫正越快。

应试重点：掌握正畸力的生物学基础——牙周膜的改建机制，理解“最佳矫治力”≈10–20g/cm2。

2.功能性矫治器的机制

难点：区分FR-Ⅲ型（下颌前导）、Twin-block（下颌前移）、Activator（肌功能训练）的作用机制。

易错点：误认为所有功能性矫治器均“改变骨骼结构”，忽略其主要通过肌功能重塑与牙弓形态调整实现效果。

应试重点：功能性矫治器适用于骨性Ⅱ类、下颌后缩，但不能显著改变上颌骨位置。

四、错颌畸形的矫治方案设计

1.拔牙与非拔牙矫治的决策标准

难点：综合分析面部型（短面/长面）、牙弓拥挤度、前牙覆盖、唇部突度、生长潜力。

易错点：仅凭拥挤程度决定是否拔牙，忽略美学与稳定性。

应试重点：掌握Bolton分析、Uhl指数、Ricketts估算法辅助判断，典型拔牙模式（如4颗第一前磨牙）的适应症。

2.复杂病例的多学科联合治疗

难点：正畸与牙周治疗、修复治疗、正颌外科的协同：

牙周病患者正畸：轻力、延长治疗周期、控制炎症。

严重骨性Ⅲ类：术前正畸→正颌手术→术后正畸。

易错点：忽略牙周支持组织状态，盲目施力导致牙槽骨吸收。

应试重点：掌握术前正畸目标（排齐牙齿、建立正常咬合关系）、术后正畸目标（精细调整咬合）。

五、矫治并发症与处理

1.常见并发症的识别与预防

并发症

表现

原因

处理原则

牙根吸收

X线示根尖变钝、变短

力过大、时间过长、个体易感性

降低矫治力、缩短疗程、定期复查

牙龈退缩

牙龈边缘下移、牙根暴露

机械刺激、菌斑控制差、薄龈生物型

加强口腔卫生、避免过强颊舌向力

白斑釉质脱矿

白垩色斑块

非常规清洁、甜食频繁

氟化物涂布、控制饮食、加强宣教

颞下颌关节紊乱（TMD）

张口受限、弹响、疼痛

矫治器设计不当、咬合干扰

停用矫治器、调合、理疗，慎用颌间牵引

2.支抗丧失与复发控制

难点：后牙前移、前牙复发、下颌后缩复发的机制。

应试重点：

保持器类型选择：Hawley保持器（可调）、透明压模保持器（美观）、舌侧丝（稳定）。

保持时间：至少为矫治时间的1.5–2倍，青少年建议2年以上。

复发高危因素：第三磨牙萌出、唇肌张力异常、不良习惯未戒除。

六、头影测量学基础

1.常用测量指标的临床意义

指标

正常值

临床意义

SNA

82°±2°

上颌相对颅底的前后位置

SNB

80°±2°

下颌相对颅底的前后位置

ANB

2°±2°

上下颌骨相对关系（5°提示Ⅱ类，0°提示Ⅲ类）

U1-SN

105°±5°

上中切牙唇倾度

L1-MP

90°±5°

下中切牙舌倾度

MP-SN

32°±3°

下颌平面角（35°提示长面型）

FMA

25°±3°

面部高度（高28°）

2.头影测量分析法的应用

难点：斯坦福法（Steiner）、Ricketts法、Tweed-Merrifield