激光清洗碳化硅涂层石墨基座技术研究.pdf

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摘要

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金属有机化合物化学气相沉积法(MetalOrganicChemicalVaporDeposition,

MOCVDLEDGaN

)是在芯片制备过程中用于氮化镓()薄膜外延生长的主要

方法。石墨基座是MOCVD设备中的核心零部件之一,直接决定薄膜材料的均

匀性和纯度。氨气是氮化镓基LED芯片的

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