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193nm光学薄膜：材料、制备与应用的深度探索

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代科技飞速发展的时代，半导体制造、光刻技术等领域取得了令人瞩目的进步，而这些进步与193nm光学薄膜及相关薄膜材料的研究息息相关。193nm光学薄膜作为一种在特定波长下具有特殊光学性能的薄膜材料，在光刻技术和半导体制造等关键领域占据着不可替代的关键地位，对推动相关产业的发展具有极其重要的意义。

光刻技术作为半导体制造过程中的核心技术之一，其分辨率的提升直接决定了芯片制造的精细化程度，是延续摩尔定律的关键所在。在光刻技术的发展历程中，曝光波长的缩短是提高分辨率的关键路径。半导体行业的光刻波长历经了多个重要