半导体行业国产替代三重周期.ppt

设计工具替代方案08EDA软件开发现状国内EDA企业逐步攻克仿真、综合等关键模块技术，但高端制程（7nm以下）工具链仍依赖国际厂商。核心技术突破国产EDA工具与晶圆厂工艺库、IP库的适配性较弱，需加强产业链上下游协同开发。生态协同不足国家专项基金及“芯火”计划推动EDA产学研合作，华大九天等企业已实现部分模拟/数字工具替代。政策扶持加速芯原股份等企业已建立处理器、接口、存储等基础IP库，能满足28nm及以上成熟制程需求，但在高速Serdes、DDR等高端IP领域仍依赖授权。基础IP初步覆盖国产IP缺乏完善的验证套件和参考设计流片数据，导致设计公司采用意愿低，形成I