CN114114477A 微型微透镜阵列匀光结构及其制作方法、tof镜头及设备 （苏州苏大维格科技集团股份有限公司）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(43)申请公

(10)申请公布号CN114114477A布日2022.03.01

(21)申请号202010897334.9GO3F

7/20(2006.01)

(22)申请日2020.08.31

(71)申请人苏州苏大维格科技集团股份有限公司

地址215123江苏省苏州市工业园区新昌

路68号

(72)发明人徐越罗明辉乔文朱鸣陈林森

(74)专利代理机构苏州简理知识产权代理有限公司32371

代理人杨瑞玲

(51)Int.CI.

GO2B3/00(2006.01)

GO2B27/09(2006.01)

GO3F7/16(2006.01)

权利要求书3页

说明书15页附图13页

(54)发明名称

微型微透镜阵列匀光结构及其制作方法、TOF镜头及设备

(57)摘要

CN114114477A本发明公开了一种微型微透镜阵列匀光结构及其制作方法、TOF镜头及设备，包括基底层，以及形成于所述基底层表面的匀光层，所述匀光层背离所述基底层的表面形成有透镜阵列组，若干个微透镜错位排布形成所述透镜阵列组，所述透镜阵列组在所述匀光层的表面形成连续的面，所述若干个微透镜多组相邻排列，相邻两组形成一个间隔组，相邻两组中的一组的微透镜的曲率半径按照从中间向两端逐渐变大的规律排布，相邻两组中的另一组的微透镜的曲率半径按照从中间向两端逐渐变小的规律排布。本发明所述的匀光结构由不同口径及形状的微透镜组成，破坏微透镜阵列的周期性，使激光阵列通过该匀光结构匀光后消除干涉现象，同时降低纳米压印的加

CN114114477A

CN114114477A权利要求书1/3页

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1.一种微型微透镜阵列匀光结构，其特征在于，包括基底层，以及形成于所述基底层表面的匀光层，所述匀光层背离所述基底层的表面形成有透镜阵列组，

若干个微透镜错位排布形成所述透镜阵列组，所述透镜阵列组在所述匀光层的表面形成连续的面，

所述若干个微透镜多组相邻排列，相邻两组形成一个间隔组，相邻两组中的一组的微透镜的曲率半径按照从中间向两端逐渐变大的规律排布，相邻两组中的另一组的微透镜的曲率半径按照从中间向两端逐渐变小的规律排布。

2.根据权利要求1所述的匀光结构，其特征在于，

所述基底层为透光玻璃基底，所述基底层的折射率大于等于1.4,且所述基底层对930nm～940nm波段的光线的透过率大于等于90%,

所述匀光层为塑型胶层，所述塑型胶层粘附在所述透光玻璃基底上，

所述塑型胶层包括光刻胶和/或压印胶；

所述透光玻璃基底的厚度范围为0.3mm-0.6mm,所述塑型胶层的厚度为0.03mm-0.1mm。

3.根据权利要求1所述的匀光结构，其特征在于，

组成所述透镜阵列组的若干个微透镜均为非球面面型的微透镜，且所述非球面面型的微透镜的曲率半径的范围为5μm-300μm;

组成所述透镜阵列组的若干个微透镜的形状基本均不相同，所述微透镜的形状包括三角形、四边形、五边形、六边形中的一种或多种组合。

4.根据权利要求1所述的匀光结构，其特征在于，

所述透镜阵列组具有若干列，所述若干列中任意一列上的相邻的两个微透镜的中心间距为25μm-120μm;

在一个所述间隔组内，所述微透镜阵列组的曲率半径的取值是随机的；

在一个所述间隔组内，相邻两个所述微透镜中心的间距由相应两个所述微透镜所选取的曲率半径以及所要求形成的光斑形状决定，

相应两个所述微透镜所选取的曲率半径越大，相邻两个所述微透镜中心的间距越大，光斑形状在相邻两个所述微透镜中心连线方向的长度越长，若相应两个所述微透镜所选取的曲率半径既定，且要求光斑形状在相邻两个所述微透镜中心连线方向的长度越长，则相邻两个所述微透镜中心的间距越大。

5.根据权利要求1所述的匀光结构，其特征在于，

两个所述间隔组之间的距离由目标要求形成的光斑形状以及每个所述间隔组中微透镜的最大曲率半径和最小曲率半径决定。

6.根据权利要求1所述的匀光结构，其特征在于，

若相邻两组中的一组的微透镜的数量为N个，且所述相邻两组中的另一组的微透镜的数量为M个，

则，当NM时，有M个微透镜的组的透镜曲率半径大于有N个微透镜的组的透镜曲率半径；

当NM时，有M个微透镜的组的透镜曲率半