国产光刻胶实现关键材料突破 (培训).ppt

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国产光刻胶实现关键材料突破汇报人:***(职务/职称)日期:2026年**月**日

光刻胶技术概述光刻工艺核心流程解析光刻胶分类与应用领域国际光刻胶市场竞争格局中国光刻胶发展历程国产光刻胶技术瓶颈光刻胶关键性能指标目录

国产替代战略意义政策支持与产业环境典型企业技术路线市场前景与需求预测技术攻关方向建议国际合作与竞争策略未来发展展望目录

光刻胶技术概述01

光刻胶定义与基本原理光敏混合液体光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂组成的对光敏感的混合液体,通过紫外光、电子束、离子束或X射线等照射后,其溶解度会发生变化。根据曝光后溶解特性的不同,可分为负性胶(曝光部分保留)和正性胶(曝光部分溶解

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