国产光刻胶实现关键材料突破 (课件).ppt

国产光刻胶实现关键材料突破汇报人：***（职务/职称）日期：2026年**月**日

光刻胶技术概述光刻工艺流程详解全球光刻胶市场格局中国光刻胶发展历程IC光刻胶技术挑战光刻胶与芯片制造关系国产化关键技术突破目录

质量检测与控制体系产学研合作模式典型企业技术路线产业链协同发展市场前景与预测政策支持与战略意义未来发展方向目录

光刻胶技术概述01

光刻胶定义与核心组成溶剂体系占比可达80%（如丙二醇甲醚醋酸酯），调节黏度确保均匀涂布，适用于不同波长光刻胶的溶剂含量呈梯度变化（g线/i线10-20%，EUV低于5%）。光敏剂核心功能组分（如光酸生成剂PAG），吸收特定波长光能后产生活性物质引