化学机械抛光系统及其高效生产工艺流程.pdfVIP

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(21)申请号201621056481.9

B24B37/34(2012.01)

(22)申请日2016.09.14

B24B41/00(2006.01)

(73)专利权人清科机电科技地址300350市津南区海河科技园区聚兴

道9号，8号楼

B24B41/02(2006.01)

专利权人

B24B41/06(2012.01)

(72)发明人

B24B55/06(2006.01)

松王同庆新春

(74)专利机构清亦华事

务所（普通合伙）11201

人

(51)Int.CI.

B24B37/10(2012.01)

B24B37/30(2012.01)

权利要求书1页说明书6页附图2页

(54)实用新型名称

化学机械抛光系统

(57)

本实用新型公开了一种化学机械抛光系统，所述化学机械抛光系统包括：前端模块，所述

前端模块用于和/或检测晶圆；多个抛光单元，多个所述抛光单元并排设置，且至少

一个邻近所述前端模块；抛光机械手，所述抛光机械手设在多个所述抛光单元之间用以传

递晶圆；后单元，所述后单元与所述抛光单元和所述前端模块均相连，且设置为

时晶圆纵置；中转机械手，所述中转机械手用于将晶圆在所述抛光单元与所述后

单元之间顺次传递。本实用新型的化学机械抛光系统，生产效率高，工艺流程更加灵活，

效果更好，且后单元的体积小，结构紧凑。

1.一种化学机械抛光系统，其特征在于，包括：

前端模块，所述前端模块用于和/或检测晶圆；

多个抛光单元，多个所述抛光单元并排设置，且至少一个邻近所述前端模块；

抛光机械手，所述抛光机械手设在多个所述抛光单元之间用以传递晶圆；

后单元，所述后单元与所述抛光单元和所述前端模块均相连，且设置为时晶

圆纵置；

中转机械手，所述中转机械手用于将晶圆在所述抛光单元与所述后单元之间顺次传递。

2.根据权利要求1所述的化学机械抛光系统，其特征在于，所述后单元为多个，多个

所述后单元并排设置，且所述中转机械手设在多个所述后单元之间。

3.根据权利要求2所述的化学机械抛光系统，其特征在于，所述后单元为两个，两个

所述后单元关于所述中转机械手对称设置。

4.根据权利要求1所述的化学机械抛光系统，其特征在于，所述后单元包括机械

手和从靠近所述中转机械手到远离所述中转机械手依次布置的翻转机构、缓存台、

模块和干燥模块，所述机械手用于传递晶圆，所述翻转机构用于翻转晶圆以

使晶圆纵置，且所述干燥模块与所述前端模块之间还设有后翻转机构。

5.根据权利要求4所述的化学机械抛光系统，其特征在于，所述后单元包括多个

模块。

6.根据权利要求5所述的化学机械抛光系统，其特征在于，多个所述模块设置为采用

相同的模式或不同的模式。

7.根据权利