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纳米碳化硅、氮化硅和掺杂氮碳化硅粉体的制备及其微波介电特性.pdf

第36卷第6期硅酸盐学报V01.36,No.6

THEJune,2008

JOURNALOFCHINESESOCIETY

2008年6月CERAMIC

纳米碳化硅、氮化硅和掺杂氮碳化硅粉体的制备及其微波介电特性

赵东林1,罗发2,周万城2

(1.北京化工大学,化工资源有效利用国家重点实验室,北京100029,2.西北工业大学,凝固技术国家重点实验室,

西安710072)

的微波介电特性,纳米SiC(N)粉体介电常数的实部(由和虚部(,>在8.2~12.4GHz随频率增大而减小,介电损耗(te,乒g'/e3较高,是较为

收材料,而纳米SiC和Si3N4粉体的t96基本为0.纳米SiC(N)粉体中S,C,N原子周围的化学环境比纯SiC和Si3N4相的混

导致其性能变化的主要原因.纳米sicfN)粉体中的SiC微晶固溶了大量的N原子,在纳米SiC(N)粉体中形成大量的带电缺陷,在电磁场作用

极化耗散电流,极化弛豫是吸收电磁波的主要原因。

关键词:纳米碳化硅和氮化硅:纳米掺杂氮碳化硅;激光诱导气相反应;微波介电特性

中图分类号:TQl74.75+.8.12文献标识码:A文章编号:045铛“8(2008)06一0783—05

ANNITROGENDDOPED

NITRIDE

PREP舢RATIoNOFCARBIDE.SILICON

NANOSILICON

AND

CARBIDETHEIRPERMITTIVITIES

SILICONPOWDERSMICROWAVE

ZHAOFa2,ZHOU

Donglinl,ruoWanchen92

ResourceofChemical

KeyofChemical100029;

(1.StateLaboratoryUniversity

Engineering,BeijingTechnology,Beijing

2.StateofSolidificationUniversity,

Processing,Northwestern

LaboratoryPolytechnical

Key

Xi’an

710072.China)

toradarandwere

Abstract:In

orderthe

prepare

high-temperatabsuroer

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