CN108519688A 台阶式薄膜波导电光调制器制作方法 （长春理工大学）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN108519688A

(43)申请公布日2018.09.11

(21)申请号201810251374.9

(22)申请日2018.03.26

(71)申请人长春理工大学

地址130022吉林省长春市朝阳区卫星路

7089号

(72)发明人孙德贵罗梦希孙翔宇

(74)专利代理机构长春众邦菁华知识产权代理有限公司22214

代理人王丹阳

(51)Int.Cl.

GO2F1/035(2006.01)

GO2F1/03(2006.01)

权利要求书1页说明书3页附图3页

(54)发明名称

108519688ACN(57)摘要台阶式薄膜波导电光调制器制作方法属于

108519688A

CN

(57)摘要

台阶式薄膜波导电光调制器制作方法属于光通信技术领域。现有技术制作的BaTiO?晶体薄膜脊形波导电光调制器的最大电光场重叠积分值也就是0.65而已。本发明之台阶式薄膜波导电光调制器制作方法包括以下步骤，在MgO晶体基底上制作BaTi0?晶体薄膜，膜厚为400～550nm;再将BaTiO?晶体薄膜两侧部分按某一深度刻蚀掉一层，BaTiO?晶体薄膜的中间部分成为BaTiO?薄膜窄条，膜厚为200～400nm;接着将BaTiO?晶体薄膜两侧与BaTiO?薄膜窄条侧壁相距某一距离的部分按某一深度刻蚀掉一层，然后在刚刚刻蚀掉的一层BaTiO?晶体薄膜的位置制作调制边电极，调制边电极的高度大于所述刚刚刻蚀掉的

一层BaTi0?晶体薄膜的厚度，完成制作。所制作的电光调制器最大电光场重叠积分值能够达到0.85。

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CN108519688A权利要求书1/1页

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1.一种台阶式薄膜波导电光调制器制作方法，其特征在于，在Mg0晶体基底(1)上制作BaTi03晶体薄膜(5),膜厚为400～550nm;再将BaTiO?晶体薄膜(5)两侧部分按某一深度刻蚀掉一层，BaTi03晶体薄膜(5)的中间部分成为BaTiO?薄膜窄条(6),膜厚为200～400nm;接着将BaTi0?晶体薄膜(5)两侧与BaTi03薄膜窄条(6)侧壁相距某一距离的部分按某一深度刻蚀掉一层，然后在刚刚刻蚀掉的一层BaTi0?晶体薄膜的位置制作调制边电极(7),调制边电极(7)的高度大于所述刚刚刻蚀掉的一层BaTiO?晶体薄膜的厚度，完成制作。

2.根据权利要求1所述的台阶式薄膜波导电光调制器制作方法，其特征在于，所述BaTiO?薄膜窄条(6)的宽度为2～4μm。

3.根据权利要求1所述的台阶式薄膜波导电光调制器制作方法，其特征在于，BaTi03薄膜窄条(6)与BaTiO3晶体薄膜(5)的膜厚值范围从最小值到最大值呈对应关系。

4.根据权利要求1所述的台阶式薄膜波导电光调制器制作方法，其特征在于，所述调制边电极(7)其材质为Au、Cu或者A1;调制边电极7的高度等于或者低于BaTi03薄膜窄条(6)上表面高度，调制边电极(7)的长度与BaTiO?薄膜窄条(6)的长度相同。

5.根据权利要求1所述的台阶式薄膜波导电光调制器制作方法，其特征在于，所述某一距离与拟达到的电光场重叠积分值相关；所述将BaTi03晶体薄膜(5)两侧与BaTi03薄膜窄条

(6)侧壁相距某一距离的部分按某一深度刻蚀掉一层中的某一深度达到Mg0晶体基底(1),或者达到Mg0晶体基底(1)上表层。

CN108519688A说明书1/3页

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台阶式薄膜波导电光调制器制作方法

技术领域

[0001]本发明涉及一种台阶式薄膜波导电光调制器制作方法，该电光调制器用于光纤通信和计算机内部数值通信，用来产生光数字脉冲信号，或者用作高电光调制效率(单位电压所能产生的折射率变化量)功能器件，属于光通信技术领域。

背景技术

[0002]光纤通信和计算机内部数值通信的快速发展对光信号发射系统的数字信号速率的要求越来越高，这取决于高效率的电光调制器件。电光调制器件是一种利用电场信号对入射光进行调制使其按电信号模式输出的器件，它通过电光作用把高频率甚至超高频率的数字脉冲电信号(亦即微波信号)转换为数字脉冲光信号。

[0003]现