CN1445091A 利用微影制程制作喷墨式打印头的喷孔片的方法 （飞赫科技股份有限公司）.docxVIP

[19]中华人民共和国国家知识产权局[51]Int.CI?

B41J2/16

[12]发明专利申请公开说明书

[21]申请9

[43]公开日2003年10月1日[11]公开号CN1445091A

[22]申请日2002.3.14[21]申请9

[71]申请人飞赫科技股份有限公司地址台湾省新竹市

[72]发明人林刘恭黄怡仁

[74]专利代理机构隆天国际知识产权代理有限公

司

代理人陈红潘培坤

权利要求书3页说明书7页附图20页

[54]发明名称利用微影制程制作喷墨式打印头的喷孔片的方法

[57]摘要

一种采用微影制程制作喷孔片的方法，是直接在硅基底上进行压膜、曝光、显影等步骤，可以有效控制喷孔的位置、口径、形状，进而获得高分辨率的喷墨品质。第一种方式是对薄膜进行两道曝光步骤以形成阶梯层的未曝光区域，再对阶梯层的未曝光区域进行一道显影步骤。第二种方式是对薄膜采用两次曝光、两次显影的方式。第三种方式是先对第一薄膜进行曝光，再沉积不同材质的第二薄膜，然后对第一薄膜进行背部显影，接着对第二薄膜进行曝光与显影制程。

知识产权出版社出版9权利要求书第1/3页

2

1.一种喷墨式打印头的喷孔片的制作方法，其特征在于包括下列步骤：

5提供一硅基底，其包含有至少一致动组件；在该硅基底表面上形成一第一薄膜；

在该第一薄膜上再覆盖一第二薄膜；

进行第一曝光制程，在第一/第二薄膜位于所述的致动组件上方的位置处形成一第一区域；

10进行第二曝光制程，以在所述的第二/第一薄膜上形成一面积小于该第一区域面积的第二区域；以及

进行最多二次显影制程，将该第一区域以及该第二区域去除，以形成在致动组件上方形成连通的开口。

2.如权利要求1所述的喷墨式打印头的喷孔片的制作方法，其特征在15于：

所述的第一薄膜内位于所述致动组件上方包含有一第一开口；

所述的第二薄膜具有负型光阻特性；

所述的第一区域是一未曝光区域，它形成于该第二薄膜内位于第一开口上方处；

20所述的第二区域是一未曝光区域，它形成于该第一区域内，且位于该第一区域的顶部；

只进行一次所述的显影制程，将该第一区域及该第二区域去除，以形成一与所述的第一开口连通的第二开口。

3.如权利要求1所述的喷墨式打印头的喷孔片的制作方法，其特征在25于：9权利要求书第2/3页

3

所述的第一薄膜内位于所述致动组件上方包含有一第一开口；

所述的第二薄膜具有负型光阻特性；

所述的第一区域是一未曝光区域，它形成于该第二薄膜内位于第一开口上方处；

5此时进行一次所述的显影制程，该显影制程为一次背部显影制程，它将部份所述的第一区域去除以形成一第二开口，并使该第一区域残留在所述的第二薄膜顶部；

所述的第二区域是一未曝光区域，它形成于残留的第一区域内，且位于该第一区域的顶部；

10再进行一次所述的显影制程，将该第二未曝光区域去除，以形成一喷孔，可使该喷孔、该第二开口以及该第一开口相互连通。

4.如权利要求1所述的喷墨式打印头的喷孔片的制作方法，其特征在于：

所述的第一曝光制程先于所述的在第一薄膜上覆盖第二薄膜的步骤

15进行，它形成的所述第一区域是曝光区域，形成于所述第一薄膜内位于所述的致动组件上方；

在所述的在第一薄膜上覆盖第二薄膜的步骤后进行一次所述的显影制程，其为一背部显影制程，它将所述的第一区域去除，以所述的第一薄膜内形成一第一开口；

20所述的第二曝光制程在所述的第二薄膜内形成一所述的第二区域，其为一曝光区域，且该第二区域位于所述的第一开口上方；

之后再进行一次所述的显影制程，将所述第二区域去除以形成一第二开口，并可使该第二开口与所述的第一开口相互连通。

5.如权利要求2或3所述的喷墨式打印头的喷孔片的制作方法，其特25