化学气相沉积法制备超纳米金刚石薄膜_王玉乾.pdfVIP

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化学气相沉积法制备超纳米金刚石薄膜_王玉乾.pdf

·54·材料导报:研究篇2009年7月(下)第23卷第7期

化学气相沉积法制备超纳米金刚石薄膜*

1112

王玉乾,王兵,孟祥钦,甘孔银

(1西南科技大学材料学院,绵阳621010;2中国工程物理研究院应用电子学研究所,绵阳621900)

摘要采用微波等离子体化学气相沉积法,利用CH4、SiO2和Ar的混合气体在单晶硅片基底上制备出高质

量的超纳米金刚石薄膜。表征结果显示,制备的薄膜致密而均匀,晶粒平均尺寸约7.47nm,表面粗糙度约15.72nm,

并且其金刚石相的物相纯度相对较高,是质量优异的超纳米金刚石薄膜材料。

关键词微波等离子体化学气相沉积超纳米金刚石薄膜

中图分类号:0484文献标识码:A

PreparationofUltrananocrystallineDiamondFilmbyChemicalVaporDeposition

1112

WANGYuqian,WANGBing,MENGXiangqin,GANKongyin

(1SchoolofMaterialsScienceandEngineering,SouthwestUniversityofScienceandTechnology,Mianyang621010;

2InstituteofAppliedElectronics,CAEP,Mianyang621900)

AbstractHigh-qualityultrananocrystallinediamondfilmispreparedonsinglecrystalSiwithAr,CH4,CO2u-

singmicrowaveplasmachemicalvapordeposition(MPCVD)technology.Theresultsshowthatthehigh-qualitythin

filmiscompactandhomogeneous,anditsaveragecrystallinegrainsandsurfaceroughnessarenearly7.47nmand

15.72nm,respectively.Andthefilmaslohasahigherdiamondphasepurity.

Keywordsmicrowaveplasma,CVD,ultrananocrystallinediamondfilm

0引言1实验

近年来,在纳米金刚石薄膜研究领域出现的一个新概念1.1实验装置

越来越引起人们的注意———超纳米金刚石薄膜,它是为了区在自行研制的石英钟罩式MPCVD装置上制备超纳米

别粒径尺寸在几十到几百纳米之间的纳米金刚石薄膜而提金刚石薄膜,其主要结构如图1所示,微波频率2.45GHz,额

出的一个全新概念。首先它的粒径尺寸一般在3~10nm,且定功率1.5kW,采用红外测温仪测量样品温度。

晶粒大小不受薄膜厚度的影响(纳米金刚石薄膜的粒径一般

随着薄膜厚度的增加而增大,当薄膜厚度达到1μm左右时,

变成微米金刚石薄膜)

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