CN101689521A 用于在半导体制作中监视通孔的方法及设备 (密克罗奇普技术公司).docxVIP

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CN101689521A 用于在半导体制作中监视通孔的方法及设备 (密克罗奇普技术公司).docx

[51]Int.Cl.

[51]Int.Cl.

HO1L21/66(2006.01)HO1L23/544(2006.01)

[19]中华人民共和国国家知识产权局

[12]发明专利申请公布说明书

[21]申请号200880021489.3

[43]公开日2010年3月31日[11]公开号CN101689521A

[22]申请日2008.6.20

[21]申请号200880021489.3

[30]优先权

[32]2007.6.22[33]US[31]60/936,925

[32]2008.5.28[33]US[31]12/128,403

[86]国际申请PCT/US2008/0675952008.6.20

[87]国际公布WO2009/002812英2008.12.31

[85]进入国家阶段日期2009.12.22

[71]申请人密克罗奇普技术公司地址美国亚利桑那州

[72]发明人兰迪·亚奇汤米·史蒂文斯

[74]专利代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司

代理人沈锦华

权利要求书2页说明书7页附图13页

[54]发明名称

用于在半导体制作中监视通孔的方法及设备

[57]摘要

101半导体制造过程105所测量的通孔异常数据:测量、位置参数信息10610单元测试器104

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