CN101907769B 一种基于soi晶圆双掩膜刻蚀的垂直梳齿驱动微扭转镜及其制作方法 （西北工业大学）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN101907769B

(45)授权公告日2011.11.16

(21)申请号201010217116.2

(22)申请日2010.07.01

(73)专利权人西北工业大学

地址710072陕西省西安市友谊西路127号

(72)发明人乔大勇孙瑞康靳倩李晓莹燕彬

(74)专利代理机构西北工业大学专利中心

61204

代理人吕湘连

(51)Int.CI.

GO2B26/08(2006.01)

B81C1/00(2006.01)

GO3F7/00(2006.01)

审查员刘宝荣

权利要求书2页说明书8页附图6页

(54)发明名称

一种基于SOI晶圆双掩膜刻蚀的垂直梳齿驱动微扭转镜及其制作方法

(57)摘要

CN101907769B本发明公开了一种基于SOI晶圆双掩膜刻蚀的垂直梳齿驱动微扭转镜及其制作方法，属于微机电系统领域及微细加工领域。该微扭转镜为单边梳齿驱动，具有三层相同结构的可动部分和固定部分。通过给不同的梳齿对施加电压信号，微扭转镜可工作在静态方式或动态方式。该垂直梳齿驱动微扭转镜的制作方法，特征在于采用单片SOI硅片加工，不需要多