开孔金属腔体屏蔽效能计算模型与仿真研究.pdf

开孔金属腔体屏蔽效能计算模型与仿真研究.pdf

摘要

摘要

电磁屏蔽是保障电子设备电磁兼容性的核心方法,通过抑制电磁干扰(EMI)

传播,显著提升系统的可靠性及抗扰度;金属腔体作为电磁屏蔽的主要手段,屏蔽

效能直接影响电子设备的抗电磁干扰能力。近年来,基于电磁拓扑理论与BLT方

程的屏蔽特性分析方法因其高效性与适应性受到广泛关注,但屏蔽效能计算模型

复杂,复杂开孔形状对屏蔽效能的影响还需要进一步研究。本文基于电磁拓扑理论,

建立了拓展BLT方程在复杂开孔、孔阵、

您可能关注的文档

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档