摘要
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作为第三代宽禁带半导体的典型代表,碳化硅(SiC),因其优异的高温稳定性、
高击穿场强和抗辐照性能,在核能系统与极端环境电子器件领域展现出重要应用前
景。然而,辐照缺陷形成机制、电子传输各向异性调控以及掺杂体系应变响应规律
等关键科学问题尚不清晰,严重制约其性能优化。本论文围绕上述挑战展开系统性
研究,结合实验表征、第一性原理计算与形变势理论,揭示了应变场与掺杂位点对
4H-SiC结构与性能的协同调控机制,主
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