CN107478251A 一种能够应力调控的石墨烯膜光纤法珀谐振器及其制作方法 （北京航空航天大学）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN107478251A

(43)申请公布日2017.12.15

(21)申请号201710838868.2

(22)申请日2017.09.18

(71)申请人北京航空航天大学

地址100191北京市海淀区学院路37号

申请人中国航空工业集团公司北京长城计

量测试技术研究所

(72)发明人李成兰天余希彧樊尚春杨军

(74)专利代理机构北京科迪生专利代理有限责任公司11251

代理人杨学明顾炜

(51)Int.CI.

G01D5/353(2006.01)

G01H9/00(2006.01)

权利要求书1页说明书5页附图3页

(54)发明名称

一种能够应力调控的石墨烯膜光纤法珀谐振器及其制作方法

(57)摘要

CN107478251A本发明公开了一种能够应力调控的石墨烯膜光纤法珀谐振器及其制作方法。该谐振器以石墨烯膜为谐振敏感材料，利用SU-8光刻胶制作形成一个光纤定位帽，并由光纤端面和吸附于光纤定位帽端面的石墨烯膜形成法布里-珀罗干涉腔。所述的制作方法将MEMS微加工技术与近紫外光刻技术相结合，首先，在氧化硅基片与形变可控的衬底层之间旋涂PDMS作为释放层，使得衬底层与硅基片的分离变得更容易；之后，在制成的应力调控衬底层的另一侧，旋涂SU-8光刻胶，并通过光刻技术制作具有台阶式圆筒状内部结构的定位帽以实现光纤的导入与定位；最后，通过环氧树脂胶将插入的光纤与定位帽进行粘合封

CN107478251A

CN107478251A权利要求书1/1页

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1.一种能够应力调控的石墨烯膜光纤法珀谐振器的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

步骤1.对硅片进行RCA标准清洁，分别用丙酮、酒精和去离子水依次各自超声清洗5分钟，然后氮气吹干，并在清洁处理过的硅片上旋涂适量的PDMS作为释放层；

步骤2.在步骤1所述的PDMS层上，制备一层具有厚度适中的环状形变可控材料，作为应力调控衬底层，并构成光纤定位帽的顶层结构；

步骤3.在步骤2所述的应力调控衬底层的上表面，旋涂一层SU-82035紫外胶，经前烘、曝光、后烘后形成所需的环状结构，之后，通过显影液浸泡，洗去未曝光的残胶后形成光纤定位帽的中间层结构，用于光纤的定位对准；

步骤4.利用氧离子体对步骤3所述的光纤定位帽的中间层结构进行表面活性处理，以用于制备定位帽的底层结构；

步骤5.在步骤4所述的经表面活性处理后的SU-82035紫外胶的表面再旋涂一层SU-8100紫外胶，同样，经前烘、曝光、后烘后形成所需的环状结构，之后，通过显影液浸泡，洗去未曝光的残胶后形成光纤定位帽的顶结构，用于光纤的导引插入，由此完成光纤定位帽的制作；

步骤6.利用光纤切割刀将光纤切出平端面，并用光纤研磨机对其进行研磨抛光，借助显微操作仪将所得光纤插入步骤5所述的光纤定位帽进行粘合固定；

步骤7.在显微操作仪的辅助下，将步骤6所述的粘合固定在一起的光纤和定位帽从PDMS表面整体分离，由此完成谐振器探头基体的制作；

步骤8.将石墨烯膜转移至步骤7所述的探头基体的应力调控衬底层的表面，即定位帽的顶层结构表面，由此完成石墨烯膜谐振器的制作。

2.根据权利要求1所述的能够应力调控的石墨烯膜光纤法珀谐振器的制备方法，其特征在于：所述的石墨烯膜谐振器具有应力调控衬底层，该层结构可选用光致形变、磁致伸缩或压电等功能材料，从而实现石墨烯膜的光、磁或电控的应力调控。

3.根据权利要求1所述的能够应力调控的石墨烯膜光纤法珀谐振器的制备方法，其特征在于：采用PDMS作为释放层，实现应力调控衬底层与硅片的分离。

4.根据权利要求1所述的能够应力调控的石墨烯膜光纤法珀谐振器的制备方法，其特征在于：所述的步骤5中光纤定位帽具有三层结构，由顶层至底层，其功能分别为应力调控、光纤定位对准和光纤导引支撑。

5.根据权利要求1所述的能够应力调控的石墨烯膜光纤法珀谐振器的制备方法，其特征在于：所述的步骤5中光纤定位帽旋涂有两层横截面为环状的SU-8光刻胶体层即SU-82035紫外胶层和SU-8100紫外胶层，其中，前者内径为75μm,外径为160μm;后者内径为126μm,外径为160μm,以实现法珀腔长的设定和插入光纤的定位。

6.根据权利要求1所述的能够应力调控的石墨烯膜光纤法珀谐振器的制备方法，其特征在于：所述的步骤6中的单模光纤