CN107389190A 一种在硅圆片上单片集成的微型光谱仪及其制作方法 （华东师范大学）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN107389190A

(43)申请公布日2017.11.24

(21)申请号201710627660.6

(22)申请日2017.07.28

(71)申请人华东师范大学

地址200241上海市闵行区东川路500号

(72)发明人宁文果郭方敏

(74)专利代理机构上海蓝迪专利商标事务所(普通合伙)31215

代理人徐筱梅张翔

(51)Int.CI.

GO1J3/18(2006.01)

权利要求书1页说明书4页附图5页

(54)发明名称

一种在硅圆片上单片集成的微型光谱仪及其制作方法

(57)摘要

CN107389190A本发明公开了一种在硅圆片上单片集成的微型光谱仪，其特点是采用硅片刻蚀及沉积金属工艺将色散系统和红外传感器集成在单片硅片上，实现光路与红外探测集成和兼容的光学结构，使入射光在硅圆片平面方向进入，经色散系统分光后到达红外传感器进行红外光的探测，其制作方法包括：刻蚀传感器凹槽后依次沉积氧化硅、氮化硅、钛和铝层并图形化，然后释放形成色散系统和红外探测器结构。本发明与现有技术相比在单片硅片上实现了折叠切尔尼-特纳结构，并在同一硅片上与光学传感器集成，光线沿硅片平面方向入射，避免了光线垂直入射，较好的解决了透射光栅零级条纹不可用等缺点，解决了普通微型光谱仪光学路径受到硅片厚度限制的问题，同时单片集成避免了键合工艺，简化了工艺，具有工艺简单，结构尺寸小的特点，尤其满足了

CN107389190A

CN107389190A权利要求书1/1页

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1.一种在硅圆片上单片集成的微型光谱仪，其特征在于采用硅片刻蚀及沉积金属工艺将色散系统和红外传感器集成在单片硅片上，实现光路与红外探测集成和兼容的光学结构，使入射光在硅圆片平面方向进入，经色散系统分光后到达红外传感器进行红外光的探测，所述硅片刻蚀是将折叠切尔尼-特纳平面二维结构沿硅片厚度向下刻蚀所形成三维结构的凹槽，以沉积金属作为反射层并图形化，其横截面结构为沉积了金的硅柱；所述凹槽内制作红外传感器以接受分光后的红外线；所述色散系统和红外探测器是在硅圆片上以单片硅片刻蚀并沉积金属的反射层。

2.根据权利要求1所述在硅圆片上单片集成的微型光谱仪，其特征在于所述红外传感器或为微测辐射计型红外探测器。

3.一种权利要求1所述在硅圆片上单片集成的微型光谱仪的制作方法，其特征在于该方法在单片硅片上刻蚀传感器凹槽后依次沉积氧化硅、氮化硅、钛和铝层并图形化，然后释放形成热隔离结构的色散系统和红外探测器，具体制作的工艺包括：a、硅片清洗；b、硅片刻蚀；c、沉积金并图形化；d、刻蚀传感器凹槽；e、沉积氧化硅；f、依次沉积氮化硅和钛并图形化；g、沉积铝并图形化；h、释放氧化硅形成热隔离结构。

CN107389190A说明书1/4页

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一种在硅圆片上单片集成的微型光谱仪及其制作方法

[0001]

技术领域

[0002]本发明涉及半导体技术领域，具体地说是一种在硅圆片上单片集成的微型光谱仪及其制作方法。

背景技术

[0003]光谱仪是测定可见光或其它波段电磁波的强度与波长关系的装置，光谱仪一般由色散系统、探测成像系统以及光路系统组成。光或者电磁辐射由入射狭缝进入光谱仪，经色散系统分离出所需要的波长或波长区域，通过成像系统测定选定的波长的强度。光谱仪具有多种不同的结构，按照光谱成像的方式可以分为四大类，第一类光谱成像方式是波长扫描式；第二类光谱成像方式是空间扫描式，通过光栅或者棱镜将不同波长的光分散到不同的空间进行成像；第三类是时间扫描式，主要为通过干涉的方法成像，根据干涉条纹计算，如傅里叶变换；第四类是以上成像方式的组合。光谱仪器光学系统结构的选择范围很大。光谱仪器经过了近一个世纪的发展，己经形成了许多典型结构，这些结构都是实践过程中不断改进、更新的结果，每一种结构的光谱仪器都会有自己的优点和缺点。光谱仪的发展，围绕着性能和成本，一个方向是向高性能方向发展，一个方向是向低成本小型化发展。对于小型化光谱仪，比较成功的方案是利用光栅和法布里-珀罗共振腔作为色散系统。可以制作硅基集成光子探测器用于探测可见光，制作热电探