CN102820311A 一种制作偏振敏感光电探测器的方法 （大连理工大学）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN102820311A

(43)申请公布日2012.12.12

(21)申请号201210254461.2

(22)申请日2012.09.25

(71)申请人大连理工大学

地址116024辽宁省大连市凌工路2号

(72)发明人侯增选郭超孙景华赵宁

刘文慧李少武李万杰张邦磊(74)专利代理机构大连理工大学专利中心

21200

代理人关慧贞

(51)Int.CI.

HO1L27/146(2006.01)

GO3F7/00(2006.01)

B82Y15/00(2011.01)

B82Y40/00(2011.01)

权利要求书1页说明书3页附图4页

(54)发明名称

一种制作偏振敏感光电探测器的方法

(57)摘要

CN102820311A本发明一种制作偏振敏感光电探测器的方法属于微纳米制造技术领域，特别涉及一种基于纳米压印技术制作偏振敏感光电探测器的方法。为实现光电探测器具有偏振检测的功能，利用纳米压印工艺在光电探测器上制作双层纳米金属光栅偏振器，其步骤如下：清洗光电探测器，使其表面无颗粒等污染；在光电探测器上旋涂压印胶，应用纳米压印制作纳米光栅；热蒸镀金属，在光栅之上及光栅之间沉积一层金属；旋涂光刻胶，曝光显影，利用显影液去除光电探测器引线电极上的光刻胶及热蒸镀的金属；以剩余光刻胶为掩膜，干法刻蚀去除引线电极上的压印胶。本发明消除了分立器件带来的安装误差，利用纳米压印工

CN102820311A

CN102820311A权利要求书1/1页

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1.一种制作偏振敏感光电探测器的方法，其特征是，为实现光电探测器具有偏振检测的功能，利用纳米压印工艺在光电探测器上制作双层纳米金属光栅偏振器，其步骤如下：

1)清洗光电探测器(1)和引线电极(2),使其表面无颗粒污染；

2)在光电探测器(1)和引线电极(2)上旋涂压印胶(3);

3)将纳米压印模板(4)下压，用纳米压印的方法压印出一维纳米光栅结构的压印胶图形(5),其压印压力为30bar,压印温度在65°C,压印时间180s,随后紫外光曝光60s;一维纳米光栅由纳米压印模板结构决定，为单方向的一维光栅或多方向的纳米光栅阵列；

4)脱模，得到含有残留层(6)的一维纳米光栅结构的压印胶图形(5);

5)热蒸镀金属，在纳米光栅之上及纳米光栅之间蒸镀一层金属层(7),纳米光栅和一层金属(7)形成的结构即为双层金属光栅结构；

6)旋涂光刻胶(8),曝光显影，利用显影液去除光电探测器引线电极(2)上的光刻胶及胶曝光区域的光刻胶(9)及热蒸镀的金属层(7);

7)以剩余光刻胶(10)为掩膜，干法刻蚀去除引线电极上的压印胶(3);

8)用湿法腐蚀工艺去除剩余光刻胶(10),得到光电探测器上的光栅偏振器结构(11)。

2.如权利要求1中所述的一种制作偏振敏感光电探测器的方法，其特征在于，所述步骤中的光电探测器(1)是以PN结为基础的光电二极管、CMOS图像传感器或CCD图像传感器；所述步骤中的压印胶为热固化压印胶、光固化压印胶或热塑性光固化压印胶；所述步骤5)和6)中的金属(7)包括金、银、铜、铝、铬；所述步骤6)中的光刻胶(8)为各类正性光刻胶或各类负性光刻胶。

CN102820311A说明书1/3页

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一种制作偏振敏感光电探测器的方法

技术领域

[0001]本发明属于微纳米制造技术领域，特别涉及一种基于纳米压印技术制作偏振敏感光电探测器的方法。

背景技术

[0002]偏振是光很重要的一种性质，日光经过大气散射后变成部分偏振光。自然界中有很多生物能够感知偏振光在天空中的强度、方向和分布模式，并能用其来实现导航定位。现有人已证明了在特定的地点特定的时间时天空偏振光是稳定的，其偏振方位角可以通过瑞利散射的方法计算出来以及利用偏振光制作导航传感器的可行性。目前已经有很多学者搭建了偏振导航传感器，并取得了一些成果：如大连理工大学褚金奎等人的“Construction

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