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  • 2026-03-14 发布于北京
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《薄膜光学》期末试卷及答案

考试时间:______分钟总分:______分姓名:______

一、选择题(每题2分,共10分)

1.在可见光波段,下列哪种材料通常用作高反膜的基本材料?()

A.硫化锌(ZnS)

B.金刚石

C.硅(Si)

D.空气

2.对于单层增透膜,为了使它在某个波长下对特定基底呈现最大透射率,其光学厚度(λ/4)必须满足的条件是?()

A.等于基底折射率的整数倍

B.等于膜层折射率的整数倍

C.等于(基底折射率-膜层折射率)/2的整数倍

D.等于(基底折射率+膜层折射率)/2的整数倍

3.在光学薄膜的制备过程中,如果膜层厚度超出设计值较多,通常是由于以下哪个因素导致的?()

A.蒸发速率过低

B.蒸发速率过高

C.基底温度过高

D.真空度不够高

4.法布里-珀罗干涉仪(FPI)的自由光谱范围(FSR)主要取决于?()

A.两反射面之间的距离

B.膜层的折射率

C.入射光的波长

D.干涉仪的孔径大小

5.以下哪种现象不是由光学薄膜应力引起的?()

A.膜层开裂

B.附着力下降

C.透射率随角度变化

D.基底翘曲

二、填空题(每空2分,共20分)

1.光学薄膜的厚度通常用________来控制,以实现特定的光学相移。

2.理想光学薄膜的设计要求其界面处的反射率尽可能________。

3.薄膜生长过程中,蒸镀气体分子的吸附和表面反应速率通常与气体分压和________成正比(在一定条件下)。

4.膜层材料的折射率随波长变化的现象称为________效应。

5.在多层高反膜设计中,为了获得陡峭的截止特性,通常采用________和高折射率膜层交替沉积的方式。

6.评价光学薄膜质量的重要指标之一是________,它反映了膜层厚度均匀性的优劣。

7.离子辅助沉积(IAD)技术可以用来提高薄膜的________和________。

8.增透膜最主要的应用是减少光学系统表面的________损耗。

三、名词解释(每题4分,共16分)

1.光学厚度(OpticalThickness)

2.相位延迟(PhaseDelay)

3.增透膜(Anti-ReflectionCoating)

4.薄膜应力(ThinFilmStress)

四、简答题(每题6分,共18分)

1.简述影响光学薄膜附着力的主要因素。

2.简述什么是等倾干涉和等厚干涉,并说明其区别。

3.与单层增透膜相比,多层高反膜的主要优点是什么?

五、计算题(每题10分,共30分)

1.已知某光学系统的基底材料为玻璃(折射率n=1.5),设计一个在波长λ=550nm处具有零反射率的单层增透膜。假设膜层材料折射率n_m=1.38。试计算该增透膜的厚度应为多少?如果入射光偏离正入射角α=10°,该膜层的反射率是否有变化?请定性说明。

2.一个法布里-珀罗干涉仪,其两反射面间距d=5μm,反射面反射率R=0.9。入射光波长λ=500nm。试计算该干涉仪的自由光谱范围(FSR)。如果使用该干涉仪测量波长,当观察到相邻两条亮纹分别位于入射光方向上x=1mm和x=1.05mm处时(设仪器透镜焦距f=500mm),求待测光波长是多少?

3.设计一个在波长λ=632.8nm处反射率接近100%的多层高反膜,要求反射带宽Δλ10nm。请给出一个可能的设计方案,包括膜层材料的选择(至少列出两种)和大致的膜层层数及厚度范围(给出计算依据或设计原则即可,无需精确计算)。

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试卷答案

一、选择题

1.A

2.C

3.B

4.A

5.C

二、填空题

1.折射率(或真空度)

2.零(或最小)

3.表面温度

4.折射率色散(或Weyl)

5.低折射率(或薄膜材料)

6.厚度均匀性(或均匀性)

7.附着力,硬度

8.反射

三、名词解释

1.光学厚度(OpticalThickness):指光在薄膜中传播的物理路径长度与薄膜折射率的乘积(nL)。它决定光通过膜层时产生的相位延迟,是薄膜光学设计的核心参数。

2.相位延迟(PhaseDelay):指光波在介质中传播时,由于介质的折射率或路径长度不同而引起的相位变化量。在薄膜光学中,相位延迟是决定膜系干涉效果的关键因素。

3.增透膜(Anti-R

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