CN103926649A 平面光波导器件的制作方法 （四川飞阳科技有限公司）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN103926649A

(43)申请公布日2014.07.16

(21)申请号201410154161.6

(22)申请日2014.04.17

(71)申请人四川飞阳科技有限公司

地址610209四川省成都市双流县西南航空

港经济开发区长城路一段185号

(72)发明人向舟翊李朝阳

(74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限公司11227

代理人王宝筠

(51)Int.CI.

GO2B6/13(2006.01)

GO2B6/136(2006.01)

权利要求书1页说明书5页附图4页

(54)发明名称

平面光波导器件的制作方法

(57)摘要

CN103926649A本发明提供了一种平面光波导器件的制作方法，包括：提供衬底，在衬底的一侧表面上依次层叠有下包层和芯层材料层；在芯层材料层背离衬底一侧的表面上形成多晶硅层，形成多晶硅层的环境温度为500℃~600℃。本发明所提供的制作方法，通过将形成多晶硅层的环境温度由原来的620℃降低至500℃~600℃,使多晶硅材料的沉积速率减慢，从而使晶粒变小，膜层致密性和反射