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Mg掺杂ZnO薄膜的方法综述

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TOC\o1-3\h\u19070Mg掺杂ZnO薄膜的方法综述 1

93041.1溶胶-凝胶法 1

74661.2喷雾热解法 5

120981.3低温水热法 8

近年来，许多研究人员发现，添加适当的掺杂剂可以改善ZnO薄膜的性能，例如贵金属的掺杂效应可以用于改善气敏性能。考虑到ZnO薄膜的不同工艺应用，对ZnO薄膜进行了Al、Fe、Mg等不同元素的掺杂，对其中Mg掺杂ZnO薄膜的制备方法和性能进行了分析[14]。

根据文献，可以采用溶胶-凝胶法、喷雾热解法、原子沉积法和低温水热法等方法制备Mg掺杂ZnO薄膜。

溶胶-凝胶法

众所周知，适当的制备方法会使ZnO集成在不同的衬底上[14]。研究人员实验发现，可以通过喷雾热解、脉冲激光沉积、光化学沉积、分子束外延、溅射和溶胶-凝胶等沉积技术制备Mg掺杂的ZnO薄膜。在各种沉积方法中，溶胶-凝胶法能够很容易地控制薄膜的厚度和小、大面积基材涂层。

MohdShkir等人[15]在采用溶胶-凝胶法制备掺杂Mg的ZnO薄膜的过程中，将[Zn(CH3COO)2.2H2O]作为前驱体、[Mg(NO3)2.6H2O]作为Mg的掺杂源、[C3H8O2]和[C2H7NO]分别作为溶剂和稳定剂。首先将一定数量的[Zn(CH3COO)2.2H2O]溶解在乙二醇单甲醚溶剂中，然后将Mg2+的掺杂源[Mg(NO3)2.6H2O]分别按照摩尔比率0%、1%、5%、10%和15%加入溶剂。将溶液连续磁化搅拌，直到得到透明且均匀的溶液。然后将添加剂单乙醇胺加入溶液，继续搅拌，直到溶液全面混合。将合成的溶液静置获得更多的凝胶，随后用旋转镀膜机在超声清洗过的玻璃基底上开始沉积，重复相同的过程，得到具有一定厚度的固定薄膜。

图STYLEREF1\s3SEQ图\*ARABIC\s11对掺杂ZnO薄膜进行X射线衍射的XRD图

利用X射线衍射对溶胶-凝胶法制备掺杂Mg的ZnO薄膜进行分析的XRD图如图3-1所示。对纯ZnO薄膜和Mg掺杂的ZnO薄膜进行相确认，看得出所有沉积的ZnO薄膜样品均为六方纤锌矿结构，且沿(002)面择优生长。从图中可以看出，(002)面的衍射强度随着ZnO薄膜中Mg离子浓度的增加而增大，导致峰宽减小，晶粒尺寸增大。此外没有观察到额外的衍射峰是因为MgO、游离Mg或其他杂质的存在。根据XRD谱图记录的数据，根据公式3.1计算晶粒尺寸D：

D=kλβ2θcosθ (STYLEREF1\s3.SEQ(\*ARABIC\s11

其中k为常数0.9，λ是X射线波长为1.5406?，β2θ为半峰宽（FWHM），θ是布拉格角。计算得到的结果如表3-1所示。可以观察到掺杂为15%的薄膜为高晶粒尺寸，因为其δ值与ε

表STYLEREF1\s3SEQ表\*ARABIC\s11纯ZnO薄膜与掺杂ZnO薄膜晶格参数的计算

薄膜

参考值

0%Mg

1%Mg

5%Mg

10%Mg

15%Mg

a=b（?）

3.2498

3.2464

3.2474

3.2495

3.2464

3.2498

c(?)

5.2066

5.2036

5.2118

5.2066

5.2231

5.2138

V(?)

47.49

47.60

47.61

47.67

47.69

D(nm)

44.551

50.911

50.038

44.736

73.454

×10-4

5.038

3.858

3.994

4.999

1.853

掺杂ZnO薄膜的吸收光谱（A）、透射光谱（T）和反射光谱(R)如图3-2（a-c）所示。从图中可以观察到，纯ZnO薄膜在可见光区域内的平均透射率约为85%，而Mg2+掺杂量仅为1%时ZnO薄膜的透射率增加到88%，这说明掺杂可以提高薄膜的光学质量。对于ZnO薄膜，由于有掺杂Mg离子的存在以及表面缺陷和界面等的存在，薄膜的吸收边向低波长方向移动，这有望极大地提高纯ZnO和Mg掺杂ZnO纳米结构薄膜的光电性能。同时这也表明沉积的薄膜在紫外光区和可见光区有很强的吸收，在这一点在各种纯金属氧化物和掺杂金属氧化物纳米结构薄膜中也被观察到了，这对许多光电器件都是非常有利的。

激发电子的光子能量是研究材料结构的主要信息，同时随入射光子能量变化的偏振度是多种光电子器件的一个重要特性。将电子激发谱分为实部(ε1)和虚部(ε2)两部分，其计算值可由公式3.2、3.3得到：

ε1=n2?k2 (STYLEREF1\s3.SEQ(\*ARABIC\s12

ε2=2nk (STYLEREF1\s3.SE