CN103796413B 等离子反应器及制作半导体基片的方法 （中微半导体设备(上海)有限公司）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利

(45)授权

(10)授权公告号CN103796413B公告日2017.05.03

(21)申请号201210431839.1

(22)申请日2012.11.01

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN103796413A

(43)申请公布日2014.05.14

(73)专利权人中微半导体设备(上海)有限公司地址201201上海市浦东新区金桥出口加

工区(南区)泰华路188号

(72)发明人许颂临石刚倪图强

(74)专利代理机构上海智信专利代理有限公司

31002

代理人王洁

(51)Int.CI.

HO5H1/46(2006.01)

HO1L21/3065(2006.01)

(56)对比文件

US

US

2008/0099426

2008/0099426

A1,2008.05.01,

A1,2008.05.01,

JP特开平7-29890A,1995.01.31,

US2003/0047536A1,2003.03.13,

CN102355792A,2012.02.15,

CN102395243A,2012.03.28,

EP19210